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马琦云 , 李俊岳 , 李桓 , 奚道岩
宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.1999.04.012
在水下等离子弧特性及其稳定性研究的基础上,本文提出一种新的喷涂法--局部干法水下等离子喷涂.文中给出了该方法的原理并进行了工艺性试验和涂层性能分析.研究结果表明:本方法工艺上可行,克服了现有湿法水下等离子喷涂的不足,而且在某些方面优于大气中的等离子喷涂,是一种有发展前途的喷涂新方法.
关键词: 水下 , 等离子 , 喷涂