李军利
,
刘卫国
,
周顺
,
蔡长龙
表面技术
为得到具有器件应用价值的非晶硅薄膜,首先采用等离子体增强化学气相沉积系统获得非晶硅薄膜,之后用离子注入设备对该薄膜进行镍离子注入掺杂.用椭偏仪测试薄膜厚度,得知非晶硅薄膜厚度为200nm,且沉积工艺稳定.X射线衍射仪测试表明,所沉积的薄膜属于完全非晶态.用四探针薄膜电阻测试设备测试非晶硅薄膜的方块电阻,结果表明,当掺杂浓度为2.5×1019个/cm3,离子注入能量为35.2 keV时,掺杂后的非晶硅薄膜具有较好电学性质,TCR约为-0.7％,室温下的方块电阻为992 kΩ/□.
关键词:
非晶硅薄膜
,
离子注入
,
电学性质
唐仁衡
,
周顺
,
肖方明
,
王英
,
孙泰
材料导报
对快淬法制备的La0.8 Ce0.2 (NiCoMnAl)5储氢合金进行热处理,考察了热处理温度对合金的结构和性能的影响,并采用XRD、PCT、恒流充放电等测试方法对合金物相结构及性能进行表征.研究表明:热处理前后La0.8-Ce0.2 (NiCoMnAl)5储氢合金均为CaCu5型相结构.热处理温度为950℃时,La0.8Ce0.2(NiCoMnAl)5合金储氢量为1.37％(质量分数),当放电电流密度为715mA/g时,合金放电比容量为307.68mAh/g,循环寿命超过300周,当放电电流密度为1200mA/g时,合金的HRD达到85.17％.
关键词:
镍氢电池
,
镧铈储氢合金
,
热处理温度
胡九龙
,
杭凌侠
,
周顺
表面技术
采用等离子体增强化学气相沉积法在硅片上沉积含氟氧化硅薄膜,用椭偏仪测量薄膜的光学参数,研究了在固定抽速和真空度自动调节情况下C2F6气体流量的变化对薄膜折射率、消光系数、沉积速率的影响.实验表明在温度300℃、射频功率200 W、压力20 Pa,SiH4 60 sccm,N2O4 40 sccm,C2F6 30 sccm的工艺参数下沉积的薄膜在550 nm处折射率为1.37,消光系数4×10-4,可作为光学减反膜的材料.
关键词:
薄膜
,
PECVD
,
低折射率
,
SiOF
