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一种实用的 PECVD 腔体检漏工具设计方法

周梁 , 韩大伟 , 孙泉钦 , 王丹名 , 李华 , 陈垚

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153005.0813

在 TFT-LCD 行业,PECVD 设备主要用于 Array TFT 基板工艺中的气相沉积;产生的非金属膜层,为金属电路提供保护、开关作用;在 PECVD 工艺制程中,腔体设计复杂,反应条件苛刻,产生的制程物会造成产品不良,故需要定期进行 PM(pre maintenance 预防性维护)。本文以 PECVD PM 作业为背景,针对设备 PM 耗时长的问题,制定了改善方法,并着重介绍了腔体检漏工具的设计过程。设计制作了一台国产化检漏工具,成功运用于量产。通过测试,检漏工具3 min 内达到10 mT(1 mT=0.133 Pa),漏率为0.45 mT/min,基本符合设备 Spec.(标准)要求。

关键词: TFT-LCD , PECVD , 腔体检漏工具 , 自主设计

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