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Na助熔剂法生长氮化镓晶体的研究进展

周明斌 , 李振荣 , 李静思 , 吴熙 , 范世马豈 , 徐卓

人工晶体学报

以高质量GaN单晶基片作为衬底实现GaN的同质外延生长,是获得GaN半导体器件优异性能的基础.高质量GaN单晶基片的缺乏已成为国际范围制约GaN器件发展的瓶颈.在GaN体单晶的几种生长方法中,由于Na助熔剂法的生长条件相对温和且成本相对较低,近年来发展较快.本文从Na助熔剂法的原理、生长工艺、助熔剂种类以及得到晶体尺寸和质量等几方面进行了综述,分析了目前Na助熔剂法生长GaN单晶中的技术问题并提出了进一步研究的一些建议.

关键词: 氮化镓 , 体单晶 , Na助熔剂法 , 进展

近紫外光激发的白光LED用单基质硅酸盐荧光粉的研究进展

章少华 , 周明斌 , 胡江峰 , 谢冰

材料导报

白光LED被称作第4代照明光源,有着庞大的应用市场.荧光粉光转换白光LED是当今固态照明的主流方案.研制近紫外光激发的白光LED用单基质硅酸盐荧光粉具有十分重要的意义.综述了目前国内外这一领域的研究进展,并指出了当前存在的问题及未来的发展方向.

关键词: 近紫外激发 , 白光LED , 单基质 , 硅酸盐荧光粉

7 MPa氮压下Na助熔剂法生长GaN晶体的研究

周明斌 , 李振荣 , 范世(马岂) , 徐卓

人工晶体学报

采用Na助熔剂法在7 MPa氮压下并引入较大温度梯度(20~70℃/cm),获得了大量毫米级的GaN晶体,GaN晶体产率高达70%以上.光学及SEM照片显示其晶形大部分为六方锥体.晶体粉末衍射分析表明,生成的GaN单晶具有六方纤锌矿结构,与标准卡片符合得很好,而单晶衍射图谱中出现(1011)的衍射峰,说明GaN单晶锥面为{1011},其(1011)面的摇摆曲线的半高宽仅为4.4 arcsec,室温下采用He-Cd 325 nm激光器激发的GaN单晶的PL谱,最高峰位于标准GaN材料的365nm处,峰的半高宽为13.5 nm,生长的GaN单晶完整性较高.

关键词: 温度梯度 , GaN晶体 , Na助熔剂法

掺杂对于旋涂热解法制备TiO_2薄膜的影响

章少华 , 周明斌 , 谢冰 , 潘年华

稀有金属材料与工程

研究了掺杂Cu和Sn对于旋涂热解法制备TiO_2薄膜的影响.将钛酸丁酯、乙酰丙酮、PEG等溶解成为乙醇溶液,将该溶液旋转涂布在玻璃基片上,并在500 ℃下煅烧可得TiO_2薄膜.掺杂Cu和Sn能改善TiO_2薄膜的光催化性能,AFM和XRD表明掺杂后可以改善薄膜的结晶性.

关键词: 二氧化钛 , 热解法 , 掺杂 , 光催化

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