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烧结钕铁硼磁体溅射渗镝工艺与磁性能研究

李家节 , 郭诚君 , 周头军 , 饶先发 , 周慧杰 , 杨斌

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2017.04.005

采用直流磁控溅射的方法,在烧结Nd-Fe-B磁体表面制备了Dy薄膜,对比研究了N35烧结态与回火态磁体晶界扩散后组织形貌与性能的变化.N35烧结态与回火态磁体经溅射渗Dy处理后,在剩磁仅降低0.009 T和0.03T的情况下,矫顽力大幅度提高,分别提高了708.44 kA/m和665.46 kA/m,渗Dy处理后磁体中的Dy元素平均质量分数增加不超过0.4%.SEM和EDS能谱的分析结果表明,晶界组织形貌的改善和(Nd,Dy)2Fe14B外延层的形成是矫顽力提升的主要原因.EPMA元素面分布结果显示,Dy主要富集在富Nd相处,三叉型富Nd相处Dy含量最高,而Dy没有扩散到主相晶粒内部,不会导致剩磁大幅度降低,从而有效提高了磁体的综合磁性能.

关键词: 磁控溅射 , 晶界扩散 , Dy元素 , 烧结钕铁硼

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