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H2O2处理H4SiW12O40/SiO2光催化降解有机染料的研究

周国辉 , 杨志远 , 杨赟 , 冯传启 , 杨水金

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.06.022

采用溶胶-凝胶法将Keggin型H4SiW12O40负载在SiO2上,并用30%H2O2溶液对其进行敏化,制得H4SiW12O40/SiO2/H2O2光催化剂,分别利用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)、X射线衍射(XRD)对该光催化剂进行表征分析,结果表明H4SiW12O40高度分散在SiO2上,并且经过H2O2溶液处理的光催化剂在935.2 cm-1出现了一个较弱的过氧基吸收峰,这与过氧多酸化合物的吸收峰较一致.另外,进行甲基橙模拟废水溶液在黑暗条件下的吸附-脱附平衡实验,结果表明在30 min达到吸附-脱附平衡,故优化组实验选择在黑暗下搅拌30 min以达到吸附-脱附平衡.接着对甲基橙的初始浓度、溶液pH以及催化剂用量进行优化.实验发现,在甲基橙初始浓度为15 mg·L-1,溶液pH为1.0,催化剂的用量为6 g·L-1的优化情况下,光降解3.0h,甲基橙的降解率达到99.0%,H4SiW12O40/SiO2/H2O2光催化降解甲基橙溶液的过程符合一级动力学反应规律;且H4SiW12O40/SiO2/H2O2对甲基紫、孔雀石绿、亚甲基蓝、罗丹明B和甲基红均具有较高的光催化活性,降解率达87.5%~ 100.0%.

关键词: 硅钨酸 , 甲基橙 , SiO2 , 光催化 , 降解

黄铜静态腐蚀脱Zn层引起拉应力的研究

吕宏 , 周国辉 , 高克玮 , 褚武扬

腐蚀学报(英文) doi:10.3969/j.issn.1002-6495.1999.05.003

研究了黄铜在静态腐蚀过程中表面疏松层的应力状态.通过测量自由端挠度的变化及用SEM技术测量脱Zn层的厚度,计算了在脱Zn层和基体界面处产生的拉应力,其稳定值约等于黄铜屈服强度的1/5.在SCC过程中这个附加的拉应力将协助外应力促进位错发射和运动,从而SCC裂纹形核.

关键词: 黄铜 , 自然腐蚀 , 脱Zn层 , 拉应力

黄铜静态腐蚀脱Zn层引起拉应力的研究

品宏 , 周国辉 , 高克玮等

腐蚀学报(英文)

研究了黄铜在静态腐蚀表面疏松层的应力状态,通过测量自由端挠度的变化及用SEM技术测量脱Zn层的厚度,计算了在脱Zn层和基体界面处生产的拉应力,其稳定值约等于黄铜屈服强度的1/5,在SCC过程中这个附加的拉应力将协助外应力促进位错发射和运动,从而SCC裂纹形核。 

关键词: 黄铜 , brass , tensile stress generated dezinc layer , null

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