葛水兵
,
程珊华
,
宁兆元
,
沈明荣
,
甘肇强
,
周咏东
,
褚君浩
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.01.010
用脉冲激光法制备了ZnO:Al透明导电膜.通过对膜的霍尔系数测量及SEM、XRD分析,详细研究了靶材中的化学配比(掺杂比)对膜的透光率和电阻率的影响.结果表明:掺杂比影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.掺杂比从0.75%增至1.5%,膜的载流子浓度、透光率( 波长大于500nm)和光隙能相应增大.在掺杂比为1.5%左右时沉积的膜的电阻率达到最小,其值为7.1×10-4Ωcm,且在可见光区其透光率超过了90%.
关键词:
脉冲激光沉积
,
ZnO膜
,
掺杂比
周咏东
,
金亿鑫
无机材料学报
用扫描电镜继续对发光多孔硅的阴极射线发光进行了系统的研究，得到了其阴极荧光发射部位、强度分布显微照片，发现在样品的表面层脱落处（暴露着多孔层大量微孔）无阴极射线发光产生，只有表面层未脱落处才有阴极射线发光；对样品的截面实验研究同样清楚地表明多孔硅样品的阴极射线发光只来源于其表面层，多孔层、硅单晶衬底区域不发生阴极射线发光．实验还提供了阴极射线发光强度在截面上随深度变化情况显微照片．阴极射线发光光谱表明其光谱峰值位置在680nm处，相似于多孔硅的光致发光．实验结果再次表明多孔硅的可见光来源于其表面层中的荧光物质．
关键词:
多孔硅
,
photoluminescence
,
cathodoluminescence
,
SEM
周咏东
,
赵军
,
李言谨
,
方家熊
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.02.022
利用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面低温生长了CdTe介质薄膜.分别用CdTe介质膜和HgCdTe自身阳极氧化膜对HgCdTe表面钝化.利用光电导衰退信号波形的拟合,得到了不同表面钝化的HgCdTe非平衡载流子表面复合速度.结果表明,CdTe/HgCdTe界面质量已超过自身阳极氧化膜/HgCdTe界面质量.
关键词:
CdTe
,
Ar+
,
束溅射沉积
,
HgCdTe
,
光电导衰退
,
表面复合速度
