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检索条件:作者=周仲承  

  • 论文(5)

纳米多孔SiO2薄膜疏水性的研究进展

高庆福 , 冯坚 , 成慧梅 , 周仲承 , 王娟 , 张长瑞

材料导报

超低介电常数纳米多孔SiO2薄膜在未来超大规模集成电路(ULSI)中有着广阔的应用前景,但其疏水性能的好坏是决定其能否在ULSI中应用的重要因素之一.介绍了国内外有关纳米多孔SiO2薄膜疏水性的原理、工艺以及表征方法.

关键词: 纳米多孔SiO2薄膜 , 疏水处理 , 接触角 , 低介电常数

PCB电镀锡工艺及添加剂的研究进展

符飞燕 , 黄革 , 王龙彪 , 杨盟辉 , 周仲承

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2015.12.004

镀锡层具有抗腐蚀性、无毒性和可焊性,被广泛应用于印制板制造领域.概述了应用于PCB镀锡过程中的电镀锡工艺种类和添加剂的发展状况.对各种镀锡的工艺和特点进行了归纳和总结.介绍了不同添加剂在镀锡中的作用,指出添加剂将由单一型向多样型发展,并对甲基磺酸盐镀锡的应用进行了展望.

关键词: 镀锡 , 添加剂 , 甲基磺酸 , 印制线路板

有序介孔材料制备过程中模板剂脱除方法研究进展

周仲承 , 冯坚 , 成慧梅 , 张长瑞 , 高庆福 , 王娟

材料导报

有序介孔材料孔径均一,孔道排列有序,有着巨大的应用前景.在其制备过程中,模板剂的脱除是十分重要的一个步骤.综述了模板剂的脱除方法,总结了已经出现的几种工艺,指出了脱除过程中的关键问题及改进的方向.

关键词: 有序介孔材料 , 模板剂 , 煅烧 , 萃取

电镀级活性氧化铜粉的制备

符飞燕 , 王克军 , 黄革 , 周仲承 , 高四 , 刘荣胜

电镀与涂饰

以纯铜片为原料,经过碳酸氢铵-氨水溶铜、常压脱氨、焙烧等3个阶段,得到了活性氧化铜粉.用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)等方法对所得活性氧化铜粉的性能进行了表征.结果表明,采用该方法得到的活性氧化铜粉纯度达到99%以上,金属杂质含量和溶解速率完...

关键词: 氧化铜 , 制备 , 表征 , 印制电路板 , 酸性镀铜

一种亚光电镀纯锡添加剂的研制及性能

符飞燕 , 杨盟辉 , 周仲承 , 王龙彪 , 刘智

材料保护

镀锡层具有抗腐蚀性、无毒性和可焊性,被广泛应用于印制板领域.开发了一种应用于电镀纯锡工艺的亚光添加剂,在较宽范围电流密度下能沉积亚光锡层,适用于高速电镀和中速滚挂镀工艺.镀液稳定,镀层亚光,具有细小均匀的沉积颗粒和优良的深镀能力,低厚度即具有良好的抗蚀能力,已推广运用到多条印制线路板厂的甲基磺酸镀锡...

关键词: 亚光镀锡 , 添加剂 , 甲基磺酸 , 印制线路板