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PZT基NiTi SMA/PZT复合材料的组织结构及其压电性能研究

吴小萍 , 刘庆锁 , 陆翠敏 , 卢雪梅

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2008.z1.046

采用真空直流溅射法在PZT基体上沉积NiTi SMA薄膜,再经过晶化处理而制备出PZT基NiTi SMA/PZT复合材料.使用扫描电子显微镜观察复合材料试样的表面和界面组织结构.使用ZJ-3A型准态仪、Automatic LCR Meter4225测试复合材料的压电常数d33,机电耦合系数KP1,介电损耗tgδ,以考察NiTi SMA薄膜对PZT压电性能的影响.测试结果显示复合材料的压电常数d33,机电耦合系数KP相对于PZT均有提高,而介电损耗tgδ有小幅度降低.NiTiSMA薄膜与PZT基体之间的良好的界面结合结构及界面附近存在的源自膜/基材料间晶格差异的约束应力,有利于电偶极子的定向运动,保障了PZT基体压电性能的发挥.

关键词: NiTi SMA薄膜 , NiTi SMA/PZT复合材料 , 组织结构 , 压电性能

磁控溅射法制备PZT基SMA/PZT异质复合材料

刘庆锁 , 吴小萍

稀有金属材料与工程

采用直流磁控溅射法在PZT基体上溅射沉积NiTiSMA薄膜,而制备出PZT基NiTii SMA/PZT异质复合材料.研究了溅射工艺参数与晶化温度对NiTi SMA薄膜相组成及SMA/PZT异质复合材料膜/基间结合状态的影响规律.结果表明,为保障NiTi SMA薄膜的晶体颗粒均匀、结构致密,膜/基间成分交换范围小及结合紧密,制各NiTi SMA/PZT异质复合材料的适宜工艺为:于基体温度150℃、氩气压强0.7 Pa条件下溅射沉积NiTi SMA薄膜,再经600℃二次晶化处理.显微观察发现,NiTi SMA薄膜与PZT基体之间以化学方式,而非物理方式结合.

关键词: 磁控溅射法 , 晶化处理 , 显微结构 , NiTi SMA/PZT异质复合材料

NiTi SMA/铁电陶瓷复合材料的制备工艺及阻尼性能研究

高晓云 , 刘庆锁 , 陆翠敏 , 吴小萍 , 何烜坤 , 卢雪梅

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2008.03.015

采用sol-gel法在NiTi SMA冷轧薄片基体上沉积陶瓷薄膜而制备出NiTi SMM铁电陶瓷异质复合材料.采用X射线衍射、扫描电镜及EDAX仪研究不同烧结温度下复合材料的物相组成,异质间结合结构等.用动态热机械分析仪(DMA)测试复合材料的阻尼性能并与单纯NiTi SMA的阻尼性能进行比较.试验结果表明,通过801-gel法及控制烧结工艺,可在NiTi SMA基体上沉积陶瓷薄膜而制备NiTi SMM铁电陶瓷异质复合材料;所制备的复合材料,在20℃以下,阻尼tg稳定在3.5%,且振动频率在0.33~10 Hz以内,振动频率对阻尼影响较小;在20~40℃范围内,存在tgδ阻尼峰,峰值可达到5.0%.相对于单纯NiTi SMA,阻尼性能复合效应显著.

关键词: NiTi SMA/FC复合材料 , 界面结构 , 相组成 , 阻尼 , sol-gel法

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