吴冶
,
孟祥龙
,
蔡伟
,
赵连城
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2005.03.026
系统研究了Ni47Ti44Nb9宽滞后记忆合金带氩弧焊点丝材的显微组织和力学行为.结果表明,焊后适当温度退火处理可显著改善焊点的显微组织,得到细小、均匀的等轴晶,从而提高了焊点的力学性能,室温下表现出较高的拉伸强度和延伸率.焊后未经退火处理的试样,室温拉伸断口均位于焊缝金属的熔合区内,微观断口存在明显的解理台阶,为典型脆性断裂.退火处理后,断口位于近焊缝处的热影响区内,是韧窝型断口,属塑性断裂.韧窝内镶嵌有(Ti,Nb)2Ni相,该相内部及其与基体交界处存在有明显的微裂纹.带焊点丝材经退火处理后在---60℃下变形,最大弯曲可恢复应变约为5%,表明焊点处仍具有一定的记忆效应.
关键词:
Ni47Ti44Nb9宽滞后记忆合金
,
氩弧焊接头
,
显微组织
,
力学行为
刘爱莲
,
吴冶
,
蔡伟
,
李民
功能材料
采用电弧炉制备了添加不同Gd含量的Ti-Ni-Gd三元合金,利用DSC、X射线衍射仪研究了重稀土元素Gd对Ti-50.7Ni合金的马氏体相变的影响.结果表明添加重稀土元素Gd后,Gd含量不超过2%(原子分数)时,淬火态的Ti-Ni-Gd三元合金中分别发生两步马氏体相变,Gd含量为10%(原子分数)时,合金中发生了一步马氏体相变,同时稀土元素Gd的加入能明显提高Ti-Ni合金的相变温度.Ti-Ni-Gd合金中马氏体仍为B19'单斜结构,而且马氏体的点阵参数随Gd的加入发生明显变化,晶胞产生畸变.
关键词:
Ti-Ni形状记忆合金
,
稀土元素Gd
,
马氏体相变
刘超
,
吴冶
,
蔡伟
,
赵连城
功能材料
利用射频磁控溅射技术成功地在Si衬底上沉积Ni-Mn-Ga薄膜,并采用XRD、SEM、AFM及 EMPA系统研究Ni-Mn-Ga薄膜的晶体学结构、断面形貌、表面形貌、成分及其影响规律.结果表明,经823K退火1h Ni-Mn-Ga薄膜完全晶化,室温下呈L21型体心立方结构;断面形貌揭示Ni-Mn-Ga薄膜呈柱状结构.Ni-Mn-Ga薄膜的表面粗糙度随溅射功率和溅射时间的增加而增大;Ni-Mn-Ga薄膜中Ga的含量受溅射功率影响较大,Ni的含量受溅射时间影响较大.
关键词:
Ni-Mn-Ga
,
形状记忆
,
磁驱动
,
薄膜
隋解和
,
吴冶
,
王志学
,
蔡伟
,
赵连城
稀有金属材料与工程
采用等离子浸没离子注入和沉积(PIIID)法以C2H2为等离子源对NiTi合金进行表面改性.利用Raman光谱分析膜层结构.采用原子力显微镜和纳米压痕分析涂层前后NiTi的表面形貌和力学性能,利用电化学测试、扫描电镜和原子吸收光谱测试涂层前后基体的耐腐蚀性和Ni离子析出.结果表明:NiTi合金表面的膜层是类金刚石(DLC);经过PIIID处理后,基体表面的粗糙度降低;纳米硬度得到提高;耐腐蚀性能获得明显改善;Ni离子析出得到有效的抑制.
关键词:
类金刚石
,
NiTi形状记忆合金
,
等离子浸没离子注入和沉积
,
腐蚀行为
隋解和
,
吴冶
,
王志学
,
蔡伟
,
赵连城
稀有金属材料与工程
采用新型等离子浸没离子注入和沉积(PⅢD)法以C2H2为等离子源对NiTi合金进行表面改性.利用Raman光谱分析膜层结构;采用纳米压痕和光电子能谱(XPS)分析涂层前后NiTi合金的表面力学性能和表面成分,利用电化学阻抗谱和动电极化测试涂层前后基体的耐腐蚀性能.结果表明:NiTi合金表面的膜层是DLC;经过PⅢD处理后,基体表面由原先的TiO2转变为DLC;纳米硬度和杨式模量得到提高;耐腐蚀性能获得明显改善.
关键词:
类金刚石
,
NiTi形状记忆合金
,
新型等离子浸没离子注入和沉积
,
电化学阻抗谱
,
腐蚀行为
隋解和
,
吴冶
,
蔡伟
功能材料
采用等离子浸没离子注入和沉积(PIIID)法分别以C2H2和石墨为等离子源在NiTi合金表面形成DLC涂层来提高该合金的耐腐蚀性.利用Raman光谱和扫描电镜分析膜层结构.利用电化学测试和原子吸收光谱测试涂层前后基体的耐腐蚀性和Ni离子析出.结果表明:采用等离子浸没离子注入和沉积法以乙炔和石墨为等离子源在NiTi合金表面形成均匀致密、结合力良好的DLC涂层.两种涂层都明显地提高了NiTi合金的耐腐蚀性能和有效地抑制了Ni离子的溶出.
关键词:
类金刚石
,
NiTi形状记忆合金
,
等离子浸没离子注入和沉积
,
腐蚀行为
