鲜晓斌
,
任大鹏
,
吕学超
,
张永彬
,
李科学
,
唐凯
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2001.06.006
对在U上化学镀Ni-P工艺进行了研究,并用扫描透射电镜(STEM),X射线衍射仪研究了P含量为9.00～10.50(质量分数)的Ni-P镀层性能、经不同温度热处理后其组织结构的转变以及室温稳定性.结果表明:镀后镀层组织为非晶态,但局部存在短程有序的尺度差异,室温下非晶态组织是稳定的;高温下,非晶态将转变为Ni、Ni3P晶体组织.
关键词:
化学镀
,
非晶态
,
组织结构
,
稳定性
鲜晓斌
,
刘柯钊
,
吕学超
,
张永彬
稀有金属材料与工程
用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)法在U表面上镀Al,Ti/Al,并采用俄歇电子能谱仪(AES)、扫描电镜(SEM)、电化学实验和平面磨耗实验,研究了其表面、剖面形貌和耐磨耐蚀性能,以及Al/U和Ti/Al镀层界面.结果表明:U上循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Al,Ti/Al界面存在较宽的原子共混区,且Ti/Al镀层的耐磨耐蚀性能明显优于单一磁控溅射离子镀Al层.
关键词:
Ti/Al镀层
,
界面
,
耐磨性
,
耐蚀性
鲜晓斌
,
吕学超
,
伏晓国
,
任大鹏
材料导报
用X-光电子能谱仪(XPS)、扫描透射电镜(STEM)分析了蒸发、磁控溅射沉积真空对铀薄膜组成和结构的影响。结果表明，在沉积真空2Pa下，蒸发、磁控溅射沉积的铀薄膜已完全氧化；在沉积真空2×10-1Pa下，磁控溅射沉积的铀薄膜由金属铀和二氧化铀组成，薄膜呈微晶或无定形结构。
关键词:
沉积真空
,
铀薄膜
,
组成
,
结构
吕学超
,
郎定木
,
张延志
,
汪小琳
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.02.014
为探讨Al2O3/Al复合涂层在贫铀表面保护中应用的可行性,采用盐雾腐蚀试验和磨损试验方法,结合SEM/EDS和XRD表征,分析了贫铀表面Al2O3/Al复合涂层的保护性能.结果表明,贫铀表面反应磁控溅射Al2O3/Al涂层没有明显的腐蚀特征,而等离子喷涂Al2O3/Al涂层发生了严重的腐蚀剥落现象.Al2O3/Al涂层表现为磨粒磨损行为,抗磨损性好.作为对比样的贫铀表面Al涂层则表现为粘着磨损行为,抗磨损性差.讨论了贫铀表面涂层的腐蚀和磨损行为.
关键词:
磁控溅射
,
Al2O3/Al复合涂层
,
贫铀
,
保护性能
熊江涛
,
李京龙
,
吕学超
,
杨卫华
,
张赋升
,
黄卫东
金属学报
采用固相真空扩散连接方法, 在873-913 K保温40-240 min条件下对轧制厚度分别为
20和60 um的Mo和Al箔进行扩散连接. 发现Mo-Al固-固界面反应初生相在Mo箔内部形核进而“破壳”生长的形貌演变模式, 成分分析表明该初生相为Al8Mo3. 初生相“破壳”后,Mo-Al界面上由Mo至Al的产物分布依次是Al8Mo3, Al5Mo和Al12Mo;在913 K保温240 min后, Al8Mo3与Al5Mo间出现Al4Mo相. 界面反应的动力学分析表明, 873-913 K条件下, Mo-Al界面反应初生相孕育期为 52-34.5 min; Al原子在Mo-Al界面新生相内和Mo箔内的扩散指前因子D01和D02分别为4.61 10-2和2.05 10-2 cm2/min, 扩散激活能G Al-1和G Al-2分别为0.98和1.48 eV.
关键词:
Mo-Al界面
,
null
,
null
白彬
,
陆雷
,
肖红
,
鲜晓斌
,
吕学超
,
杨江荣
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2003.12.005
用磁控溅射镀膜技术在铀表面制备了钛膜防腐蚀层.用俄歇电子能谱仪(AES)研究了在超高真空室中铀表面钛膜从室温加热到400℃过程中表面化学结构的变化,同时对比分析了钛板试样的结构变化.最后分析了TiO2对铀表面钛膜吸附残余气氛的影响.结果表明,钛膜表面吸附了大量的含碳气体并使之分解而形成TiC.加热方式影响钛膜对含碳气体的吸附行为.钛膜表面形成TiO2后可显著降低对含碳气体的吸附能力.
关键词:
钛膜
,
吸附
,
残余气氛
,
铀
吕学超
,
汪小琳
,
鲜晓斌
,
郎定木
,
肖红
,
张延志
稀有金属材料与工程
利用扫描电镜(SEM),俄歇能谱分析(AES),X射线衍射分析(XRD)和电化学等技术,研究了磁控溅射沉积Al-Zn镀层的结构及其对铀的保护性能.结果表明施加偏压显著地影响Al-Zn镀层的结构和保护性能.在-100V偏压下沉积的Al-Zn镀层,其组织更致密,成分有择优重溅射现象并伴有合金相生成,更有利于铀的防腐保护.
关键词:
铀
,
磁控溅射
,
Al-Zn镀层
,
结构
,
保护
鲜晓斌
,
吕学超
,
刘清和
,
李科学
,
唐凯
,
刘卫华
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2003.05.005
用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)和化学镀分别在U表面上沉积Cu、Ni-P/Cu,并采用俄歇电子能谱仪(SAM)、扫描透射电镜(STEM)、电化学实验,研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能,以及U基和镀层界面.结果表明:U上循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Cu结晶细密,界面存在较宽的原子共混区,U表面先溅射沉积Cu镀层,再化学镀非晶态Ni-P镀层,能够有效地改善镀层的结合强度.
关键词:
Ni-P/Cu镀层
,
组织结构
,
耐蚀性能
鲜晓斌
,
刘柯钊
,
吕学超
,
张永彬
稀有金属材料与工程
用设计的循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀法在U表面上镀Ti,并采用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪和湿热加速腐蚀实验,研究了其表面、剖面形貌、镀层的组成与结构、膜基界面特征,以及耐湿热腐蚀性能.结果表明,U上循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Ti层结晶致密、晶粒细化,镀层由表及里分别由TiO2/TiO/Ti构成,镀层厚度≥4μm时、其试样的耐湿热腐蚀性能较之金属U来讲有较大程度的提高.
关键词:
Ti镀层
,
循环Ar+轰击
,
耐湿热腐蚀性能
,
组织结构
张厚亮
,
吕学超
,
任大鹏
,
李嵘
,
赖新春
,
赵天明
稀有金属材料与工程
采用Ar+离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar+离子束刻蚀试验进行比对.结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5 keV的Ar+离子束较1.0 keV对U薄膜表面粗糙度趋于减小,表面愈光滑,溅射深度仅限于纳米级,而与金属Mo的刻蚀效果相比与之相反.Ar+离子束溅射对材料表面具有超精细抛光的效果,辅之于离子束微米级刻蚀减薄,将有助于U薄膜表面精细加工.
关键词:
Ar+离子束
,
反应溅射
,
刻蚀
,
U薄膜
,
表面粗糙度
