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不稳定液体基底上溅射金属Ag薄膜的非平衡生长

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2002.01.014

本文研究了不稳定液体基底上溅射金属薄膜的非平衡生长现象.实验发现:此类薄膜的生长速率不再是常数,与基底温度、表面覆盖率密切相关;薄膜的表面形貌受到了基底温度、溅射功率、固体-液体界面性质等因素的复杂影响.分析表明:生长界面的表面张力及其各向异性对薄膜生长过程起着重要的作用.

关键词:

采用直流磁控溅射法在载玻片上制备Cr/Gd/Cr薄膜.利用XRD和VSM对薄膜的微观结构和低温磁特性进行研究.结果表明:薄膜的Tc=297 K,高于块体Gd的Tc=293 K,薄膜中的铁磁层Gd与反铁磁层Cr的自旋在界面表现出铁磁耦合特征,当温度分别在80～200 K和250～290 K时,矫顽力和交换偏置场随温度表现出正常的变化规律,但温度为200～250 K时,随温度的升高,Gd的自发磁矩方向发生变化,铁磁相Gd与反铁磁相Cr之间的耦合作用减弱,表现出交换偏置场减小、矫顽力增大的反常变化.

关键词: Cr/Gd/Cr薄膜 , 交换偏置 , 磁化强度 , 矫顽力

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不稳定液体基底上溅射金属Ag薄膜的非平衡生长

Cr/Gd/Cr薄膜的低温磁特性研究

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