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CVD技术在制备含硅化合物膜层中的应用

刘立 , 沈复初 , 袁骏 , 叶必光 , 田丽 , 郦剑

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.02.032

本文综述了近十几年来CVD技术在不同基底材料上制取含硅化合物膜层的研究应用,并提出了目前存在的问题.

关键词: CVD , 含硅化合物膜