俞丹
,
卢意飞
,
戴祝萍
,
孙剑
,
吴嘉达
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.02.001
以烧结B4C为靶材料、在氮离子束辅助下用脉冲激光沉积方法制备了三元化合物硼碳氮(BCN)薄膜.用X光电子谱和傅立叶变换红外谱方法表征了制备的薄膜.结果表明,膜层中包含B-C、N-C、B-N键等复合结构,以B-C-N原子杂化的形式结合成键,而并非各种成分的简单混合.还探讨了成膜过程和相关机理,离子束中的活性氮有效地和脉冲激光对B4C靶烧蚀产生的硼和碳结合成键,氮离子束的辅助还能在一定程度上抑制氧杂质进入膜层,给衬底适当加温有利于提高氮的含量并影响薄膜的化学结构.
关键词:
硼碳氮薄膜
,
脉冲激光沉积
,
离子束辅助沉积
,
Kauffman离子源
