李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜, 研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响。结果表明, 高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃, 当入射基板离子数和Ti原子数的比值J/JTi≥4.7时, 沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长, 薄膜微观结构致密, 硬度达到25GPa, 残余压应力小。
关键词:
TiN薄膜
,
null
,
null
宋政
,
华学明
,
樊勇
,
王敏
,
吴毅雄
材料科学与工艺
应用LS-DYNA有限元软件,对Touran轿车天窗框架冲压成形过程进行了数值仿真,研究了框架易于失效沟槽处材料的变形行为,并预测了开裂产生的原因,同时对其成形后的厚度变化、变形安全裕度及天窗框架的材料选择进行了分析,仿真结果与实际冲压结果取得了较好的一致,证明了所建立的天窗框架仿真模型的合理性及计算结果的准确性,同时也进一步说明了材料性能对成形化具有显著的影响,为天窗框架冲压材料的选择提供了科学依据.
关键词:
冲压成形
,
镀锌钢板
,
数值模拟
,
天窗框架
李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.016
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值Ji/JTi≥4.7时,沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长,薄膜微观结构致密,硬度达到25 GPa,残余压应力小.
关键词:
TiN薄膜
,
物理气相沉积(PVD)
,
择优取向
,
离子照射
叶欣
,
华学明
,
王敏
,
楼松年
金属学报
doi:10.11900/0412.1961.2013.00753
以轧制态、铸态、铸后均匀化三种状态的Inconel-718镍基合金薄板为对象,进行钨极氩弧焊(TIG)接头部分熔化区(PMZ)的研究.通过OM,SEM,EDS等手段观测不同焊接线能量下PMZ的微观组织.通过EDS测得晶内奥氏体、偏析区、Laves相的合金元素含量后,采用热力学软件Themo-Calc计算其理论固液相线温度,比较当母材状态不同时焊接接头PMZ各相的液化及凝固温度,分析液膜存在的温度范围大小.结果表明,Inconel-718镍基合金TIG焊接接头PMZ存在微观组织遗传性,铸态、铸后均匀化接头PMZ中仍然保持树枝晶的结构特征,而轧制态接头PMZ中仍是等轴晶.接头PMZ中皆析出链状Laves和颗粒状MC相,母材中原有偏析区消失.铸态母材固液相线间距最大,铸后均匀化的次之,轧制态的最小.当母材状态、几何尺寸相同时,随着焊接线能量的增加,PMZ宽度增大.当焊接线能量相同时,铸态PMZ宽度大于铸后均匀化和轧制态PMZ宽度.
关键词:
镍基Inconel-718合金
,
PMZ
,
偏析
,
液膜
,
树枝晶
