邓金祥
,
陈浩
,
陈光华
,
刘钧锴
,
宋雪梅
,
朱秀红
,
王波
,
严辉
功能材料
研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值.本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论.XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,还含有C和O.从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90,较接近于氮化硼的理想化学配比1:1;不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86,离氮化硼的理想化学配比1:1较远.计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8nm.
关键词:
立方氮化硼薄膜
,
表面
,
X射线光电子能谱
岳明
,
刘卫强
,
刘燕琴
,
刘钧锴
,
张久兴
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2003.05.007
研究了采用放电等离子烧结技术制备TbFeCo磁光靶材的工艺过程, 考察了烧结温度对材料组织均匀性和致密度的影响. 利用扫描电子显微镜和能谱分析仪对材料的微观组织形貌及成分进行了分析, 同时用阿基米德法测量了材料的密度. 结果表明: 适当的提高烧结温度可以使材料得到均匀的组织, 理想的致密度. 但过高的烧结温度会造成材料局部组织的熔化, 使材料的组织均匀性变差, 1010 ℃的烧结温度是制备具有均匀组织和理想致密度Tb(Fe,Co)3材料的最佳温度.
关键词:
放电等离子
,
TbFeCo
,
磁光靶材