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刘玉岭 , 刘钠 , 曹阳
稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1999.02.002
提出了新抛光硅片镜面吸附物吸附动力学过程和优先吸附数学模型及吸附物吸附状态控制机理.
关键词: 硅片 , 吸附 , 模型 , 动力学
