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金刚石自支撑膜衬底生长立方Y2O3薄膜的性能

王猛 , 李成明 , 陈良贤 , 刘金龙 , 郭建超 , 魏俊俊 , 黑立富 , 吕反修

材料热处理学报

采用射频磁控溅射法在抛光的CVD金刚石膜上制备了立方(222)择优取向的Y2O3薄膜,利用XRD,纳米力学探针,划痕仪,FTIR和TEM等手段研究了退火对Y2O3薄膜的结构、力学性能和红外透过率的影响及Y2O3的微观结构.结果表明:通过退火Y2O3薄膜的结晶程度增加,退火后的择优取向仍为立方相(222)晶面结构;薄膜的硬度降低而弹性模量升高,薄膜与金刚石的结合力增加;薄膜的红外透过率略有降低;薄膜为柱状晶结构并存在大量非晶态.

关键词: CVD金刚石 , Y2O3 , 退火 , 力学性能 , 红外透过

Li含量对球形富锂正极材料结构和电化学性能的影响

刘金龙 , 杨军 , 郭少帅 , 王永刚 , 王丛笑 , 刘海梅 , 徐群杰 , 夏永姚

表面技术

富锂正极材料已经成为高能量密度锂离子电池最具有前景的正极材料之一。然而,富锂正极材料电化学性能对其本体和表面的局域结构很敏感,而这些结构跟材料的合成过程密切相关。在目前的工作中,从合成的角度提出了新的思路,Li含量x将影响着富锂Li1.2x Mn0.54 Ni0.13 Co0.13 O2材料的结构特性和电化学性能。基于电化学,XRD,Raman, XPS技术的分析结果,改变Li含量将在材料的本体和表面产生尖晶石相和Li2 CO3物种,会造成所合成的材料局部组分发生变化,进而影响其电压容量曲线。实验结果表明,在正极材料合成的过程中,相比于其他含量,Li含量过量5%(摩尔分数)所合成的样品表现出更好的电化学性能,放电容量高达270 mAh/g。

关键词: 电池 , 富锂正极材料 , 层状 , 球形 , 局域结构

金刚石自支撑膜的高温红外透过性能

黑立富 , 闫雄伯 , 朱瑞华 , 陈良贤 , 刘金龙 , 魏俊俊 , 廉伟艳 , 张荣实 , 李成明

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2016.000792

由于金刚石具有低吸收和优异的力学与导热性能使其成为长波(8~12μm)红外光学窗口材料的重要选择.对于许多极端条件的应用,化学气相沉积(CVD)金刚石自支撑膜的高温光学性质至关重要.应用直流电弧等离子喷射法制备光学级金刚石自支撑膜进行变化温度的红外光学透过性能研究,采用光学显微镜、X射线衍射、激光拉曼和傅里叶变换红外-拉曼光谱仪检测CVD金刚石膜的表面形貌、结构特征和红外光学性能.结果表明:在27℃时金刚石膜长波红外8~12μm之间的平均透过率达到65.95%,在500℃时8~12μm处的平均透过率为52.5%.透过率下降可分为3个阶段.对应于透过率随温度的下降,金刚石膜的吸收系数随温度的升高而增加.金刚石自支撑膜表面状态的变化,对金刚石膜光学性能的影响显著大于内部结构的影响.

关键词: 直流电弧等离子喷射 , 金刚石自支撑膜 , 高温红外透过

立方Y2O3薄膜结构、力学及光学性能的研究

王猛 , 李成明 , 朱瑞华 , 刘金龙 , 陈良贤 , 魏俊俊 , 黑立富

人工晶体学报

采用射频磁控溅射法在本征(100)Si片上和CVD金刚石膜上制备了立方(222)择优取向的Y2O3薄膜,应用AFM观察薄膜的三维形貌表明薄膜表面晶粒致密,缺陷较少,表面粗糙度为8.7 nm;TEM表征薄膜微观结构,表明薄膜为柱状晶结构,柱状晶宽度10~20 nm,而且晶界明显,部分较大晶粒中存在些许位错缺陷;纳米力学探针和划痕仪表征薄膜的力学性能,表明薄膜硬度为20.73 GPa,弹性模量为227.5 GPa,可作为金刚石膜的抗氧化保护膜,并且与金刚石膜的结合较好,结合力约为5N;FHR对薄膜的光学性能进行分析,表明双面立方Y2O3薄膜对金刚石膜的最大增透为23%,基本符合Y2O3的理论增透效果.

关键词: Y2O3薄膜 , 射频磁控 , 缺陷

新型Ni/TiO2催化剂用于对硝基苯酚催化加氢

王海棠 , 朱银华 , 杨祝红 , 刘金龙 , 孙庆杰 , 陆小华 , 冯新

催化学报

以介孔氧化钛晶须为载体,采用等体积浸渍法制备了Ni/TiO2催化剂,通过扫描电镜、X射线衍射、N2吸附脱附、热重分析和程序升温还原技术对催化剂及其前驱体进行了表征,考察了催化剂中Ni含量及焙烧和还原温度对催化剂催化对硝基苯酚加氢反应性能的影响.结果表明,Ni/TiO2催化剂不仅具有晶须状形貌和高结晶度的锐钛晶型,还保持了高比表面积和介孔结构.随着Ni/TiO2催化剂中镍负载量的增加,对硝基苯酚转化率逐渐增加,当镍负载量超过10%时,催化剂活性和选择性没有明显变化.当镍负载量为10%,焙烧和还原温度分别为500和450 ℃时,Ni/TiO2催化剂的加氢活性最佳,是Raney Ni的4倍.该催化剂循环使用7次后未发现明显失活.

关键词: 介孔氧化钛晶须 , , 负载型催化剂 , 对硝基苯酚 , 催化加氢 , 对氨基苯酚

ZnS衬底表面制备HfO_2增透保护膜的性能

赵晓静 , 李成明 , 陈良贤 , 刘金龙 , 冯寅楠 , 黑立富 , 吕反修

材料热处理学报

用射频磁控溅射法在CVD ZnS衬底上制备了HfO2薄膜,利用X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶红外光谱(FTIR)和纳米力学探针对HfO2薄膜的结构和性能进行了分析和测试。结果表明,制备的HfO2为单斜相,膜层致密、表面平整、粗糙度仅为3.0 nm,硬度(7.3 GPa)显著高于衬底ZnS的硬度(2.6 GPa)。采用ZnO薄膜作过渡层,可有效提高HfO2与ZnS衬底的结合强度。单面镀制HfO2薄膜后,ZnS衬底在8-12μm长波红外波段的透过率最高可达81.5%,较之ZnS基体提高了5.8%,双面镀制HfO2薄膜后透过率最高可达90.5%,较之ZnS基体提高了14.8%,与理论计算结果吻合较好,适合作为ZnS窗口的增透保护膜。

关键词: ZnS , HfO2薄膜 , 增透保护膜 , 射频磁控溅射

离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响

魏俊俊 , 朱小研 , 陈良贤 , 刘金龙 , 黑立富 , 李成明 , 张勇

材料热处理学报

研究了阳极层离子源预处理工艺对WC硬质合金基底表面粗糙度Ra和表面最大峰谷值Pv的影响,以及对后续镀制Ta缓冲涂层表面特征及膜基附着力的影响.结果表明,硬质合金基片表面粗糙度和表面最大峰谷值的增加量随基片偏压升高呈指数增加;而离子源电压对基片表面粗糙度和表面最大峰谷值影响较弱;采用离子源电压1350 V,基片偏压200 V轰击硬质合金基片15 min后镀制Ta膜,膜层表面晶粒细小均匀,表面致密性显著增加;此外,基片表面经离子源处理后,镀制的Ta缓冲层与基底的膜基结合力有较大改善,这将有利于提高后续贵金属保护涂层的附着力及抗元素扩散能力.

关键词: 离子源预处理 , 结合力 , 表面粗糙度 , 表面最大峰谷值

1.3微米发光自组织InAs/GaAs量子点的电致发光研究

孔云川 , 周大勇 , 澜清 , 刘金龙 , 苗振华 , 封松林 , 牛智川

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2002.06.008

用优化的MBE参数生长了1.3μm发光的InAs/GaAs量子点材料,并制成发光二极管,对不同温度和有源区长度下样品的电致发光谱进行了细致的研究.观察到两个明显的电致发光峰,分别对应于量子点基态和激发态的辐射复合发光.实验表明,由于能态填充效应的影响,适当增大量子点发光器件有源区长度,更有利于获得基态的光发射.这个结果提供了一种控制和调节InAs/GaAs量子点发光二极管和激光器的工作波长的方法.

关键词: 量子点 , 电致发光 , 发光二极管 , 能态填充效应

微波等离子体下GaN的分解与纳米金刚石膜的沉积

田寒梅 , 刘金龙 , 陈良贤 , 魏俊俊 , 黑立富 , 李成明

人工晶体学报

采用微波等离子体化学气相沉积(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术系统地研究了GaN的分解机制.结果表明微波等离子体富氢环境促进了GaN的分解反应,分解过程由表面缺陷开始,向侧面扩展,最后沿氮极性面进行;氢等离子体中通入少量氮气能够显著抑制GaN的分解,在此基础上采用两步生长法成功实现在GaN上纳米金刚石膜的直接沉积.

关键词: 氮化镓 , 分解 , 微波等离子体化学气相沉积 , 纳米金刚石膜

医用316L不锈钢表面改性的研究进展

孙建华 , 刘金龙 , 王庆良 , 吴高峰

材料导报

316L不锈钢作为生物医用材料在近20年内被广泛应用在矫形外科植入物、牙种植体和冠状动脉支架等领域.分析了目前医用316L不锈钢在临床应用中存在的主要问题.指出生物相客性、耐腐蚀性和耐磨损性有待提高和表面改性是改善上述问题的有效途径.综述了医用316L不锈钢表面改性的各种途径及研究成果,并展望了316L不锈钢表面改性的研究趋势.

关键词: 316L不锈钢 , 表面改性 , 生物相容性

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