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溶液pH值对化学镀Ni-Co-P合金的影响

刘珍

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.1999.01.006

在化学镀中镀液的pH值不仅影响施镀过程的沉积速度,而且还将直接影响镀层成分及镀层性能.着重研究了溶液pH值对化学镀Ni-Co-P的影响,比较了化学镀Ni-Co-P和Ni-P镀层的性能,以及热处理对镀层性能的影响.

关键词: 化学镀 , Ni-Co-P , pH值 , 热处理

PECVD法淀积不同应力状态氮化硅薄膜工艺研究

韩建强 , 王小飞 , 刘珍 , 宋美绚 , 李青

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2011.02.012

等离子增强化学气相淀积法(PECVD)淀积的氮化硅薄膜具有沉积温度低、生长速率高、均匀性好等优点,在微电子机械系统(Micro-Electromechanical System,MEMS)中的应用越来越广泛,研究其应力状态对研制MEMS器件和系统具有重要意义.本文在大量实验的基础上,淀积出高压应力、低压应力、微应力、低张应力和高张应力五种不同应力状态的氮化硅薄膜,并对残余应力与SiH4/NH3流量比例、射频功率之间的关系进行了说明.

关键词: 微电子机械系统 , 氮化硅 , 等离子化学气相淀积 , 残余应力

纳米材料制备方法及其研究进展

刘珍 , 梁伟 , 许并社 , 市野濑英喜

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.03.024

综述了纳米材料的结构、性能及发展历史;介绍了纳米材料的制备方法及最新进展;概述了纳米材料在各方面的应用状况和前景;讨论了目前纳米材料制备中存在的问题.

关键词: 纳米材料 , 结构与性能 , 制备技术 , 应用前景 , 研究 进展

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