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铌酸锂晶体最佳掺杂含量的理论计算

范志新 , 刘新福

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2002.01.016

本文把一个从对电子薄膜材料研究中得到的最佳掺杂含量定量理论推广到铌酸锂晶体材料.该理论建立了电子薄膜材料的某一物理性能与晶体结构、制备方法和掺杂剂含量之间的联系,给出了一个能够拟合实验曲线的具有确定物理意义的抛物线方程.该方程的极值点确定了最佳掺杂含量与晶体结构和制备方法之间的定量关系,进而得到了一个掺杂最佳含量的表达式.系统地分析了铌酸锂晶体材料的掺杂改性的实验结果,应用掺杂最佳含量表达式定量计算了铌酸锂晶体材料的最佳掺杂含量,定量计算的结果与实验数据是比较接近的.该理论方法也适用于其他薄膜材料最佳掺杂含量的理论计算.

关键词: 铌酸锂 , 制备方法 , 最佳掺杂含量 , 理论计算

一种改进的硅片薄层电阻及其均匀性表征方法

刘新福 , 刘东升 , 孙以材

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.042

概述了微区电阻测试方法及其均匀性表征方法的应用,利用自主研制的斜置式方形四探针微区薄层电阻测试仪,对P型硅芯片进行了无图形Rymaszewski法测试,在3寸芯片上测试了598个366 μm×366 μm 方形微区的薄层电阻,并用等值线图表示了其分布,得到了薄层电阻的不均匀度及平均值,这种微区薄层电阻表示方法适用于评价材料质量及改进制造工艺.

关键词: Rymaszewski法 , 等值线图 , 薄层电阻

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