张萍
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王焕英
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刘占荣
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刘树彬
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次立杰
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武戈
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张星辰
人工晶体学报
利用正硅酸乙酯(TEOS)和氧氯化锆(ZrOCl2·8H2O)的水解反应并经高温煅烧后,在BiVO4晶体表面形成SiO2·ZrSiO4膜,以提高BiVO4的耐高温性.采用红外光谱仪、X射线衍射仪、差热分析仪对产品进行了表征,并得出结论:包覆SiO2·ZrSiO4膜后的BiVO4晶体,其耐热温度由680℃提高到1000℃,并对包覆机理进行了探讨.
关键词:
钒酸铋
,
二氧化硅
,
硅酸锆
,
包覆
,
机理
