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退火温度对宽带脉冲压缩光栅载体金属/介质多层高反膜的影响

吴建波 , 晋云霞 , 关贺元 , 孔钒宇 , 刘文文 , 刘世杰 , 易葵

无机材料学报 doi:10.15541/jim20140025

分别以金(Au)作为金属层材料,氧化铪(HfO2)与氧化硅(SiO2)作为高低折射率层材料,利用物理气相沉积方法制备了用于宽带脉冲压缩光栅制作的金属/介质多层高反膜,研究了退火温度对其表面均方根粗糙度、反射率及抗化学清洗破坏能力的影响.实验结果表明:退火前后样品表面均方根粗糙度变化很小;提高退火温度能提高金属/介质多层膜的抗化学清洗破坏能力,但反射率会随之下降.250℃退火10 h后金属/介质多层膜不仅可以承受住化学清洗过程,而且反射率下降也比较小,可以作为金属/介质多层膜的最佳退火工艺.

关键词: 金属/介质多层膜 , 脉冲压缩光栅 , 退火 , 化学清洗 , 反射率

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