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光电催化降解磺基水杨酸的研究

刘鸿 , 冷文华 , 吴合进 , 成少安 , 吴鸣 , 张鉴清 , 李文钊 , 曹楚南

催化学报

建立了以刮浆工艺制得的TiO2/Ni为工作电极、泡沫镍为对电极、饱和甘汞电极为参比电极的光电催化反应体系,研究了在磺基水杨酸(SSal)的光电催化降解过程中,外加电压和溶液pH值对降解速率的影响.实验发现,外加阳极偏压为700 mV时,SSal能发生有效降解,降解速率受溶液pH值的影响; 随着SSal降解的进行,阳极表面电阻出现较大的变化.另外还研究了SSal光电催化降解过程中的电流变化特征.

关键词: 二氧化钛 , 光电催化 , 泡沫镍 , 磺基水杨酸 , 降解反应

某产品联接螺栓上的断裂力学理论应用研究

国庆见 , 王自华 , 苗传先 , 冷文华 , 昝政

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2010.03.017

本论文从传统的强度设计角度入手,引入断裂力学设计理念,对某产品轴承基座联接螺栓进行选材优化设计,为延迟脆性断裂问题的解决提供了理论支撑.同时也为腐蚀环境下服役的高强螺栓设计提供了有益的借鉴.

关键词: 强度设计 , 断裂力学理论 , 有限元分析 , KISCC

脉冲电源频比对AZg1D微弧氧化膜的影响

郑俊军 , 曹发和 , 冷文华 , 常林荣 , 张鉴清

材料科学与工程学报

应用脉冲微弧氧化电源,研究频比(脉冲电源单个周期内正脉冲频率与负脉冲频率的比值)对AZ91D镁合金在碱性硅酸盐溶液中微弧氧化的影响。频比改变微弧氧化过程中的能量分布,当频比为1时,所制备膜层更厚和致密。提高频比,膜层表面更加多孔,膜层减薄,这主要是由于单个负向周期中,频比增加,负向脉冲作用时间延长。增加频比,两个正向脉冲间隔缩短,易形成更多放电通道并在膜层表面形成更多微孔。微弧氧化膜层表面的火山口形状的熔融结构主要是由于负向脉冲导致的冷却和溶解作用。改变频比,由于微弧氧化膜层的截面微观结构没有显著变化,因此频比对膜层的保护性能影响较弱,但是氧化样品较未氧化样品的耐蚀性能有显著提高。

关键词: AZ91D , 微弧氧化 , 频比 , 微观结构 , 组成

电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

冷文华 , 刘东坡 , 程小芳 , 朱文彩 , 张鉴清 , 曹楚南

金属学报

为利用可见光能实现对金属材料的光电化学防腐蚀,采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极。考察了其制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响。结果表明:沉积电位-0.45 V (相对于饱和甘汞电极),沉积时间1600 s,烧结温度400 ˚C时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂如甲酸和升高溶液pH,有利于光电流输出。在阳极室溶液组成为0.5 mol•dm-3 Na2SO4+0.5 mol•dm-3 HCOOH (pH 9.6)时,WO3 薄膜电极在可见光光照下可对4 mol•dm-3 NaCl 溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀。这为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径,具有广泛潜在的应用前景。

关键词: WO3 , null , null

金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

张鉴清 , 冷文华 , 程小芳 , 刘东坡

中国腐蚀与防护学报

自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

关键词: 光电化学 , semiconductor , cathodic protection , corrosion.

金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

张鉴清 , 冷文华 , 程小芳 , 刘东坡

中国腐蚀与防护学报 doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2006.03.013

自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

关键词: 光电化学 , 半导体 , 阴极保护 , 腐蚀

电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

冷文华 , 刘东坡 , 程小芳 , 朱文彩 , 张鉴清 , 曹楚南

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2007.07.018

采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极.考察了制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响.结果表明:沉积电位-0.45 V(相对于饱和甘汞电极)、沉积时间1600 s、烧结温度400℃时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂(如甲酸和升高溶液pH值,有利于光电流输出.在阳极室溶液组成为0.5 mol/dm3Na2SO4+0.5 mol/dm3HCOOH(pH 9.6)时,WO3薄膜电极在可见光光照下可对4 mol/dm3NaCl溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀,为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径.

关键词: WO3 , 电沉积 , 可见光 , Cu , 光电化学防腐蚀

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