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Si基底上TiN膜不同参数(分压,膜厚,束流强度)下的PAT缺陷分析

冯宏剑 , 赵杰

功能材料

用IBAD(ion beam assisted deposition)方法镀TiN膜不但有很好的膜基结合力,而且纳米硬度、耐腐、耐磨性能可通过高低能结合的方法来提高.本文作者用PAT(positron annihilation technique)技术分析了在同一高低能条件下不同参数对Si基底的缺陷的影响,解释并论证了改进实验的方法.

关键词: IBAD , PAT , 缺陷