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等离子体还原SiCl4一步法制备多晶硅实验研究

冉祎 , 兰天石 , 覃攀 , 戴晓雁 , 印永祥

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2007.04.025

区别于改良西门子法、硅烷法、碳热还原法、区域熔炼法等多晶硅生产工艺,利用等离子体技术,建立了以硅的氯化物为原料,一步法制备多晶硅的实验装置和工艺流程,并在此基础上进行了粒状多晶硅制备的实验.实验表明,SiCl4单程转化率超过70%,多晶硅选择性60%.利用XRD、SEM、AS等分析手段,对所得产物进行了表征.与纯度为7个9的多晶硅标样的比较表明,实验产物达到了太阳能级.此方法为多晶硅生产极大地放宽了原料选择条件,为低成本生产太阳能级多晶硅提供了一种新的途径.

关键词: 多晶硅 , 等离子体 , 四氯化硅 , 一步法 , 西门子法

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