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γ-CuI晶体的发光衰减时间和对X射线的能量响应

李锋锐 , 顾牡 , 何徽 , 畅里华 , 温伟峰 , 李泽仁 , 陈亮 , 刘金良 , 欧阳晓平 , 刘小林 , 刘波 , 黄世明 , 倪晨

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160262

采用溶剂蒸发法生长出透明的带隙宽度为2.96 eV的γ-CuI晶体.在紫外光激发下,该晶体在410、430 nm处分别呈现有近带边发射峰,另在720 nm附近还出现一个与样品碘缺陷有关的宽发射带.经碘退火后,样品720 nm发射带被基本抑制,而在420 nm处出现了一个更强的近带边发射峰.使用扫描相机分别测量了γ-CuI晶体各发射峰(带)的衰减时间谱,其中近带边发射峰的发光衰减时间常数均在数十皮秒量级,表明γ-CuI晶体具有极快的时间响应特性;而720 nm发射带的发光衰减时间常数主要在数十纳秒量级.X射线激发下,γ-CuI晶体具有435 nm近带边发射峰和680 nm发射带,其近带边发射对X射线能量响应的测量结果表明,当Ex<49.1 keV时,γ-CuI晶体闪烁光快分量对X射线的探测效率相对较高.

关键词: γ-CuI晶体 , 超快闪烁体 , 衰减时间 , 能量响应

LuTaO4∶Ln3+(Ln=Eu,Tb)透明薄膜制备改进与其发光性能研究

吴霜 , 刘波 , 邱志澈 , 陈士伟 , 张娟楠 , 刘小林 , 顾牡 , 黄世明 , 倪晨

无机材料学报 doi:10.15541/jim20150503

LuTaO4是一种新型的辐射探测材料,但是制备高质量的透明薄膜面临着巨大挑战.为了在保证薄膜不开裂与高透明度的前提下提高薄膜的厚度,通过大量摸索选用聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为胶黏剂并优化溶胶中固含量及PVP含量成功制备出单层厚度达到l00 nm的LuTaO4∶Ln3+(Ln=Eu,Tb)薄膜,保证了薄膜的透明度同时大大提高了发光性能.该方法为高质量LuTaO4∶Ln3+(Ln=Eu,Tb)厚膜的制备和应用奠定了基础.

关键词: LuTaO4∶Ln3+(Ln=Eu,Tb)薄膜 , 溶胶-凝胶法 , 固含量 , PVP , 发光性能

Lu2SiO5∶Ce3+透明薄膜制备及其发光性能研究

吴霜 , 刘波 , 陈士伟 , 张娟楠 , 刘小林 , 顾牡 , 黄世明 , 倪晨 , 薛超凡

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160034

Lu2SiO5∶ Ce3+薄膜具有高光产额、快衰减时间、高密度、高空间分辨率等优点,有望成为X射线探测中的闪烁材料,但制备高质量的薄膜面临挑战.本工作采用溶胶凝-胶法,通过对制备过程中水硅比、烧结程序、胶黏剂和固含量等四个因素的系统研究与分析,结果表明:在空气湿度为85%,溶胶水硅比为6.6条件下,适量添加PEG400,采用优化后最佳固含量,从450℃开始进行烧结程序后退火,可制备出具有透明、平整、无裂痕的高质量Lu2SiO5∶ Ce3+闪烁薄膜,单次旋涂获得的膜厚达到167 nm.实验表明水含量是引起薄膜发白的主要因素;烧结程序决定了薄膜的有机物分解程度及结晶状况;溶胶固含量及胶黏剂含量是调控薄膜厚度的重要方法.本工作为Lu2SiO5∶ Ce3+闪烁薄膜的实际应用奠定了基础.

关键词: Lu2SiO5∶ Ce3+薄膜 , 水硅比 , 烧结程序 , 胶黏剂 , 固含量 , 发光性能

透明SiO2-Al2O3-CaO-CaF2 微晶玻璃中Tb3+的发光性能研究

顾牡 , 孙心瑗 , 黄世明 , 金鑫杰 , 刘波 , 刘小林 , 倪晨

人工晶体学报

通过对1.0 mol%Tb2O3掺杂45SiO2-20Al2O3-10CaO-25CaF2玻璃进行热处理制备出透明微晶玻璃,经XRD分析微晶玻璃内析出了大小约为27 nm 的CaF2颗粒.并分别在紫外和X射线激发下研究了Tb3+在基质玻璃和透明微晶玻璃中的发光行为.结果表明:微晶玻璃中CaF2纳米晶颗粒的析出有利于提高Tb3+的发光性能,紫外激发时,Tb3+的545 nm特征发光强度增强了4倍;而X射线激发时,Tb3+的545 nm特征发光强度增加了3.5倍.

关键词: CaF2纳米晶 , 透明微晶玻璃 , 光致发光 , X射线激发发射

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