廖国
,
王冰
,
张玲
,
牛忠彩
,
张志娇
,
何智兵
,
杨晓峰
,
李俊
,
许华
,
陈太红
,
曾体贤
,
谌家军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.024
采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1～0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5～1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大；Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加；不同工作气压下制备的Mo膜为立方结构,在较低工作气压下薄膜结晶性能较好.
关键词:
直流磁控溅射
,
Mo薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
王瑞春
,
沈鸽
,
何智兵
,
赵高凌
,
张溪文
,
翁文剑
,
韩高荣
,
杜丕一
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2002.01.024
本文介绍了金属诱导晶化非晶态硅制备多晶硅薄膜的新方法,综述了制备金属/非晶态硅复合薄膜的各种方法与晶化结果,着重介绍了金属低温诱导的机理及其在器件应用方面的可行性.
关键词:
金属诱导
,
非晶硅
,
多晶硅
,
薄膜
何智兵
,
张溪文
,
沈鸽
,
王瑞春
,
赵高凌
,
翁文剑
,
杜丕一
,
韩高荣
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.02.014
为了找到制备CuPc/ZnS多层复合膜薄膜最佳光电导性能的参数,本文研究了CuPc/ZnS多层复合膜的CuPc膜层的厚度系列、ZnS膜层的厚度系列的光电导性能和结构,利用表面电位衰减仪、紫外-可见光谱仪和X射线衍射仪等设备分析了复合薄膜的光电导性能和结构及其关系,探讨了改变CuPc、ZnS膜层的厚度对CuPc/ZnS多层复合膜薄膜的光电导性能和结构的影响.
关键词:
复合膜
,
光电导特性
,
紫外-可见光谱
,
有机/无机复合
廖国
,
何智兵
,
杨晓峰
,
陈太红
,
许华
,
李俊
,
谌加军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.04.011
采用直流磁控溅射方法在不同工作气压下制备了Bi薄膜,对薄膜的晶体结构、沉积速率、表面形貌和生长模式进行了研究,并对其晶粒尺寸的变化规律进行了分析.X射线衍射(XRD)结果表明Bi薄膜均为多晶斜六方结构.研究发现沉积速率随工作气压的升高先增大后减小.扫描电镜(SEM)图像显示随着工作气压的升高,小晶粒尺寸增大、大尺寸晶粒逐渐消失,薄膜变得疏松多孔；薄膜经历柱状-节榴状-楔形3种生长方式.
关键词:
直流磁控溅射
,
Bi薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
何智兵
,
吴卫东
,
唐永建
,
程丙勋
,
许华
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.02.001
在不同氧氩比例气氛下,采用反应直流磁控溅射方法制备了SiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见光谱(UV-Visible spectrum)等研究了氧氩比例的不同对SiO2薄膜的晶体结构、化学配比、表面形貌和光学性能的影响.结果显示:室温下,不同氧氩比例的SiO2薄膜都为非晶结构;随着氧分量的增加,Si2p与O1s向高结合能方向移动;在氧分量较大的气氛下,SiO2薄膜的化学失配度较小,薄膜均匀,致密,在400-1100nm有良好的光透过性.
关键词:
材料学
,
反应直流磁控溅射
,
SiO2薄膜
,
性能
何智兵
,
黄勇刚
,
张溪文
,
赵高凌
,
杜丕一
,
韩高荣
材料导报
酞菁铜是一种重要的多功能高分子材料,其良好的光电性能,正越来越引起人们广泛的研究.介绍了酞菁铜的研究发展历史,简述了酞菁铜的结构及能级特征.详细介绍了酞菁铜的耐高温性、导电性、光电导性、光伏效应、气敏性、热电效应、电致发光性、光存贮性和催化学性等性质及其应用.在此基础上展望了酞菁铜的应用前景.
关键词:
酞菁铜(CuPc)
,
太阳能电池
,
光电导
,
气敏性
,
电致发光
黄常刚
,
何智兵
,
王朝阳
,
唐永建
材料导报
反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.分析了高阈值激光反射膜膜层材料的选择及膜系设计,比较了目前制备高阈值激光反射膜的几种常用方法.重点论述了反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜需要解决的两个问题:工作点的选择及控制方法;反应磁控溅射中的打火、靶中毒及阳极消失.并且提出了相应的解决方案.阐述了影响激光反射膜损伤阈值的因素以及反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜的优势.
关键词:
反应磁控溅射
,
膜系设计
,
阈值
,
激光反射膜
,
进展
刘磊
,
王涛
,
何智兵
,
张玲
,
易勇
,
杜凯
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.038
采用直流/射频耦合反应磁控溅射法在Si(111)衬底上使用高纯石墨靶材制备出了类金刚石(DLC)薄膜.分别采用表面轮廓仪、激光拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、扫描电镜、白光干涉仪、纳米压痕对薄膜的性能进行了表征和分析.研究了沉积过程中不同工作气压(0．35~1．25 Pa)对薄膜沉积速率、结构、表面形貌及力学性能的影响.研究表明，随着工作气压的升高，薄膜的沉积速率逐渐减小，薄膜中 sp3含量先升高后降低；薄膜表面粗糙度随工作气压的升高呈现出先降低后升高的趋势，且在工作气压为1．0 Pa时达到最小值6．68 nm；随着工作气压的升高，薄膜的显微硬度与体弹性模量先升高后降低，且在工作气压为1．0 Pa时分别达到最大值11．6和120．7 GPa.
关键词:
耦合反应磁控溅射
,
类金刚石薄膜
,
工作气压
