林晓娉
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何丽静
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张建军
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王晓东
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王铁宝
材料热处理学报
采用离子束溅射方法在单晶Si(100)基片上沉积厚度为100nm的Al2O3薄膜,利用原子力显微镜、X射线光电子能谱、掠入射衍射等微观分析手段,研究了薄膜的表面形貌、粗糙度、成分,及退火后微观结构的变化.研究表明:室温沉积在基片上的纳米薄膜为非晶态,纳米颗粒为无方向性沉积,颗粒呈团球状,其成分基本满足Al2O3的标准成分配比.850℃×6h退火处理后,生成晶态的γ-Al2O3薄膜表面结晶完整,颗粒清晰可见.
关键词:
纳米薄膜
,
离子束沉积
,
掠入射衍射
,
退火
