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工作气压对磁控溅射ZAO薄膜性能的影响

付恩刚 , 庄大明 , 张弓 , 杨伟方 , 赵明

功能材料

工作气压在ZnO∶Al(ZAO)薄膜制备过程中是一个重要的工艺参数,直接决定着薄膜的性能.本文利用中频交流磁控溅射方法, 采用氧化锌铝(ZnO与Al2O3的质量比为98∶2)陶瓷靶材, 在基体温度为250℃,工作气压范围为0.2～8.0Pa条件下,制备了ZAO薄膜.利用X射线衍射仪和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了分析和观察,利用分光光度计和霍尔测试仪测量了薄膜的光学和电学性能,研究了制备薄膜时不同的工作气压(氩气压力PAr)对薄膜的结构、形貌、光学性能和电学性能的影响.结果表明:随着工作气压的增加,薄膜的电阻率先略有下降然后上升,相应地,载流子浓度和迁移率先略有上升然后下降,而可见光谱平均透过率保持在80%以上. 当基体温度为250℃,氩气压力为0.8Pa时,薄膜的电阻率最低,为4.6×10-4Ω*cm,方块电阻为32Ω时,在范围为490～600nm的可见光谱内的平均透过率可达90.0%.

关键词: 磁控溅射 , ZAO薄膜 , 工作气压 , 电阻率 , 透过率

交流磁控溅射制备ZAO薄膜工艺参数的研究

李士元 , 付恩刚 , 庄大明 , 张弓

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2005.06.025

对于交流磁控溅射氧化锌铝陶瓷靶材制备ZAO薄膜,研究了氧流量、基体温度、靶电流密度、铝的掺杂量、本底真空压力和工作气体压力对ZAO薄膜电学性能的影响规律,优化了工艺参数,为工业化生产提供了实验依据.

关键词: 磁控溅射 , ZAO薄膜 , 工艺参数 , 电阻率

掺铝氧化锌薄膜的红外性能及机制

付恩刚 , 庄大明 , 张弓

金属学报

采用中频交流磁控溅射氧化锌铝(ZnO+2%Al2O3)陶瓷靶材的方法制备了掺铝氧化锌ZAO(ZnO∶Al)薄膜. 利用红外光谱仪测试了薄膜的红外反射性能, 研究了薄膜厚度、基体温度和氩气压力对ZAO薄膜红外反射性能的影响规律, 确定了制备具有高红外反射率的ZAO薄膜的工艺参数.

关键词: 磁控溅射 , ZAO thin film , infrared reflection

掺铝氧化锌薄膜的红外性能及机制

付恩刚 , 庄大明 , 张弓

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.03.022

采用中频交流磁控溅射氧化锌铝(ZnO+2%Al2O3)陶瓷靶材的方法制备了掺铝氧化锌ZAO(ZnO:Al)薄膜.利用红外光谱仪测试了薄膜的红外反射性能,研究了薄膜厚度、基体温度和氩气压力对ZAO薄膜红外反射性能的影响规律,确定了制备具有高红外反射率的ZAO薄膜的工艺参数.

关键词: 磁控溅射 , ZAO薄膜 , 红外反射

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