介明印
,
赵广军
,
何晓明
,
曾雄辉
,
庞辉勇
,
张连瀚
,
徐军
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.01.030
本文综述了铈离子掺质硅酸钆(Ce:Gd2SiO5)闪烁晶体的结构、闪烁性能、闪烁机理及晶体生长的研究现状,重点讨论了Ce:GSO闪烁晶体生长的研究进展;提出了硅酸钆闪烁晶体未来研究发展的几个方向为:大尺寸晶体的生长、高光输出的研究、混合型硅酸钆晶体的研究等.
关键词:
Ce:Gd2SiO5
,
闪烁晶体
,
晶体生长
,
光学性能
介明印
,
赵广军
,
曾雄辉
,
何晓明
,
张连翰
,
夏长泰
,
徐军
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.025
本文用中频感应提拉法生长出尺寸为φ30mm×150mm,质量好的GSO:Ce晶体.并对晶体进行XRD测试和差热分析,初步分析引起晶体开裂的原因,最后测试了晶体室温下的吸收和荧光光谱等,GSO:Ce晶体发射峰为433nm,晶体在大于400nm范围其光透过率大于80%.
关键词:
硅酸钆晶体
,
闪烁晶体
,
提拉法生长
,
开裂
,
荧光光谱
庞辉勇
,
赵广军
,
介明印
,
曾雄辉
,
夏长泰
,
周圣明
,
徐军
无机材料学报
随着第三代同步辐射源的出现,由荧光屏和CCD耦合组成的、具有亚微米级空间分 辨率、快速在线成像功能的探测器在医疗、安检、工业、科研等领域将会得到广泛应用.本文主 要综述了成像荧光屏用材料的概况和发展趋势,重点阐述了闪烁单晶薄膜的研究及发展情况.
关键词:
亚微米成像
,
fluorescent screens
,
inorganic scintillation single crystal films
,
liquid phase epitaxy
庞辉勇
,
赵广军
,
介明印
,
曾雄辉
,
夏长泰
,
周圣明
,
徐军
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.02.002
随着第三代同步辐射源的出现,由荧光屏和CCD耦合组成的、具有亚微米级空间分辨率、快速在线成像功能的探测器在医疗、安检、工业、科研等领域将会得到广泛应用.本文主要综述了成像荧光屏用材料的概况和发展趋势,重点阐述了闪烁单晶薄膜的研究及发展情况.
关键词:
亚微米成像
,
荧光屏
,
无机闪烁单晶薄膜
,
液相外延
何晓明
,
赵广军
,
曾雄辉
,
介明印
,
周圣明
,
徐军
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.02.020
采用温度梯度法(TGT)成功生长了直径为76mm高光学质量的Ce:YAG高温闪烁晶体,采用偏光显微镜研究了Ce:YAG闪烁晶体中的主要宏观缺陷,观察到了生长条纹、侧心、气泡、包裹物以及应力双折射等宏观缺陷.实验结果表明,晶体中的气泡、包裹物以及应力双折射等宏观缺陷主要集中在晶体边缘部分,因此温梯法可以获得高质量的Ce:YAG闪烁晶体.
关键词:
无机闪烁晶体
,
Ce:YAG
,
温度梯度法
,
宏观缺陷
庞辉勇
,
赵广军
,
介明印
,
朱江
,
何晓明
,
徐军
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.009
本文采用中频感应提拉法成功生长了未掺杂的Y2SiO5(YSO)晶体,经过定向、切割、抛光后得到样品.经过腐蚀后,利用大视场显微镜和扫描电镜在样品表面上观察到了菱形和四边形的位错蚀坑、小角晶界和包裹物等缺陷;测试了经过氢气、空气退火前后,辐照前后YSO晶体的透过谱,结果表明:YSO晶体的吸收边大约在202nm,氢气退火后在200~300nm波段透过率增加,空气退火后透过率显著降低;辐照后,氢气退火的样品在200~500nm波段透过率显著降低.
关键词:
YSO晶体
,
辐照
,
光谱
,
位错蚀坑
,
小角晶界