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国际聚变材料辐照装置屏蔽中子学设计研究

陈义学 , 吴宜灿 , U. Fischer

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2006.02.020

介绍了中国科学院等离子体物理研究所与德国Forschungszentrum Karlsruhe合作开展的国际聚变材料辐照装置(IFMIF)屏蔽中子学方面的相关设计研究工作.重点介绍了新开发的三维耦合屏蔽计算方法, 包括其基本原理和程序系统等, 以及基于该方法的IFMIF的三维屏蔽计算典型结果与分析.

关键词: 国际聚变材料辐照装置 , 聚变材料 , 屏蔽,Monte Carlo , 离散纵标法

U薄膜制备方法

吕学超 , 任大鹏 , 汪小琳

稀有金属材料与工程

探讨了U薄膜的制备方法.主要介绍了机械抛光、电解抛光、机械轧制、磁控溅射沉积、离子束辅助沉积和聚焦离子束方法等,涉及了精细U薄膜的制备要求.同时,简要介绍了防止U薄膜氧化的后处理手段.

关键词: U薄膜 , 制备方法 , U薄膜抗氧化处理

Ion sputter erosion in metallic glass-A response to "Comment on: Homogeneity of Zr(64.13)Cu(15.75)Ni(10.12)Al(10) bulk metallic glass" by L-Y. Chen, Y-W. Zeng, Q-P. Cao, B-J. Park, Y-M. Chen, K. Hono, U. Vainio, Z-L. Zhang, U. Kaiser, X-D. Wang, and J-Z Jiang J. Mater. Res. 24, 3116 (2009)

Journal of Materials Research

The morphology of the dark and bright regions observed by transmission electron microscopy for the Zr(64.13)Cu(15.75)Ni(10.12)Al(10) bulk metallic glass strongly depends on the ion beam parameters used for ion milling. This indicates that the ion beam could introduce surface fluctuation to metallic glasses during ion milling.

关键词: room-temperature

Detailed check of the LDA plus U and GGA plus U corrected method for defect calculations in wurtzite ZnO

Computer Physics Communications

Based on a detailed check of the LDA + U and GGA + U corrected methods, we found that the transition energy levels depend almost linearly on the effective U parameter. GGA + U seems to be better than LDA + U, with effective U parameter of about 5.0 eV. However, though the results between LDA and GGA are very different before correction, the corrected transition energy levels spread less than 0.3 eV. These more or less consistent results indicate the necessity and validity of LDA + U and GGA + U correction. (C) 2012 Elsevier B.V. All rights reserved.

关键词: Band-gap problems;LDA plus U and GGA plus U;ZnO;First-principles;augmented-wave method

U68CuCr与U75V钢轨的摩擦磨损行为对比

万永清 , 杨忠民 , 杨西荣 , 王慧敏 , 陈颖

钢铁 doi:10.13228/j.boyuan.issn0449-749x.20150410

通过在MM-200摩擦磨损试验机上轮对滚动摩擦模拟试验，研究U68CuCr、U75V两种钢轨分别与ER8车轮钢轮对滚动摩擦磨损行为。U68CuCr、U75V是相同强度级别，不同硬度的钢轨。结果表明：U68CuCr钢轨硬度略低于U75V钢轨的硬度，但U68CuCr钢轨试样及其ER8匹配车轮的试样的磨耗量显著小于U75V钢轨试样及其ER8匹配车轮试样的磨耗量。同时，U68CuCr钢轨的塑性变形层和白层都比U75V钢轨的厚。

关键词: 摩擦磨损 , 钢轨 , 磨耗量

36U型钢性能异常分析

张贺宗 , 李智博

物理测试 doi:10.3969/j.issn.1001-0777.2007.03.014

对36U型钢弯曲断裂及性能异常原因进行分析,发现断裂的主要原因是碳、硅含量超标、锰含量严重超标,使组织中出现较多贝氏体,且铁素体含量降低,同时断裂试样硬度比正常试样硬度高近一倍,最终导致U型钢性能异常、弯曲断裂.

关键词: 36U型钢 , 性能异常 , 脆性断裂 , 原因分析

36U型钢性能异常分析

张贺宗 , 李智博

物理测试

对36U型钢弯曲断裂及性能异常原因进行分析，发现断裂的主要原因是碳、硅含量超标、锰含量严重超标，使组织中出现较多贝氏体，且铁素体含量降低，同时断裂试样硬度比正常试样硬度高近一倍，最终导致U型钢性能异常、弯曲断裂。

关键词: 36U型钢 , property abnormity , brittleness crack , reason analysis

U上Al,Ti/Al镀层研究

鲜晓斌 , 刘柯钊 , 吕学超 , 张永彬

稀有金属材料与工程

用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)法在U表面上镀Al,Ti/Al,并采用俄歇电子能谱仪(AES)、扫描电镜(SEM)、电化学实验和平面磨耗实验,研究了其表面、剖面形貌和耐磨耐蚀性能,以及Al/U和Ti/Al镀层界面.结果表明:U上循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Al,Ti/Al界面存在较宽的原子共混区,且Ti/Al镀层的耐磨耐蚀性能明显优于单一磁控溅射离子镀Al层.

关键词: Ti/Al镀层 , 界面 , 耐磨性 , 耐蚀性

O2在U和U-Nb合金表面吸附的XPS研究

伏晓国 , 刘柯钊 , 汪小琳 , 柏朝茂 , 赵正平 , 蒋春丽

金属学报

采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa.s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.

关键词: 合金 , null , null

O2在U和U-Nb合金表面吸附的XPS研究

伏晓国 , 刘柯钊 , 汪小琳 , 柏朝茂 , 赵正平 , 蒋春丽

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2001.06.004

采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa@s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.

关键词: O2 , U , U-Nb合金 , 表面吸附 , X射线光电子谱