Hirokazu Kobayashi
,
Shogo Ito
,
Kenji Hara
,
Atsushi Fukuoka
催化学报
doi:10.1016/S1872-2067(16)62564-0
一种中孔硫酸化的、只含Br?nsted酸位的氧化锆-氧化硅催化剂可将甘油转化为丙烯醛,其产率和选择性分别为81%和82%.即使在低温(523 K)下,产物时空收率可高达9.0 mmol h–1 gcat–1.本催化剂的活性和选择性高于典型的硫酸化的ZrO2催化剂.氧化硅稀释了锆物种而使得催化剂酸性更温和,较大的孔径使得传质更快,因此催化剂性能提高.
关键词:
丙烯醛
,
甘油
,
中孔
,
硫酸化二氧化锆
张波
,
董显平
,
徐晓峰
,
赵培
,
吴建生
中国有色金属学报
利用磁控溅射在室温条件下沉积ITO薄膜和ITO-Zr薄膜,对比研究在空气中退火处理对ITO和ITO-Zr薄膜性能的影响.结果表明,Zr的掺杂促进了(400)晶面的取向,随着退火温度的升高,薄膜表面颗粒增大,表面粗糙度有所降低.室温下Zr的掺杂显著改善了薄膜的光电性能,随着退火温度的升高,ITO和ITO:Zr薄膜的方阻都表现为先降后升的趋势,ITO-Zr薄膜在较低的退火温度下可见光透过率就可达到80%以上,直接跃迁模型确定的光学禁带宽度Eg呈现了先升后降的变化.ITO:Zr薄膜比ITO薄膜显示了更高的效益指数,揭示了ITO-Zr薄膜具有更好的光电性能.
关键词:
ITO薄膜
,
磁控溅射
,
退火处理
,
光电性能
朱协彬
,
姜涛
,
邱冠周
,
黄伯云
功能材料
利用化学共沉淀法,在InCl3和SnCl4混和溶液中添加PEG-1000,并滴加浓度为25%氨水,制备了ITO前驱体,在温度700℃煅烧3h后得到ITO纳米棒.利用SEM、XRD、TEM-EDS和傅立叶-红外光谱仪分别对ITO纳米棒的形貌和尺寸、结构和物相、EDS能谱和FT-IR光谱分析,并对ITO纳米棒形貌形成机理进行了探讨分析.研究结果表明,ITO纳米棒具有立方铁锰矿结构,且具有纯度高和分散性好等特点,平均直径约为φ300nm,长度可迭3000nm,长径比约达10.随着煅烧时间的延长,ITO纳米棒形貌不变,对尺寸影响不大.
关键词:
ITO纳米棒
,
聚乙二醇-1000
,
共沉淀法
,
制备
张维佳
,
王天民
,
糜碧
,
洪轲
稀有金属材料与工程
对铟锡氧化物ITO(Indium Tin Oxide)纳米粉末的制备方法如均相共沉淀法,水溶液共沉淀法,电解法,溶胶-凝胶法,喷雾燃烧法,喷雾热分解法等以及ITO磁控溅射靶的现有几种制备工艺进行了综合评述.阐述了各种制备工艺过程和工作原理,比较和分析了各工艺方法的优缺点,并提出了制备高品质ITO粉末及ITO靶的努力方向.
关键词:
纳米粉末
,
ITO
,
溅射靶
张维佳
,
王天民
,
吴小文
,
钟立志
,
崔敏
稀有金属材料与工程
研究采用均相共沉淀法制备纳米ITO(Indium Tin Oxide)粉末的制备工艺参数,从碱式溶度积平衡和酸式溶度积平衡,根据热力学平衡理论并引入化学反应热容参数分别计算了ITO前驱物In(OH)3和Sn(OH)4开始沉淀和沉淀完全的pH值以及其开始溶解和溶解完全的pH值,给出了这些pH值随沉淀温度的变化规律,由此对工艺参数进行了优化设计并提供了一种有效的材料掺杂新工艺.采用高分辨率透射电镜,扫描电镜,X射线衍射对ITO纳米粉末进行了测量.结果表明,ITO粉末的平均晶粒大小为28 nm,而且沿(400)面生长.
关键词:
纳米粉末
,
ITO
,
优化工艺参数设计
王秀娟
,
司嘉乐
,
杨德林
,
谷锦华
,
卢景霄
人工晶体学报
利用射频磁控溅射法低温制备铟锡氧化物薄膜,主要研究了氧氩流量比、溅射功率、溅射压强、沉积温度和靶基距等工艺参数对ITO薄膜结构和光电性能的影响.在优化的沉积条件即氧氩流量比0.1/25、溅射功率210W、溅射压强0.2 Pa、靶基距2.0 cm和衬底为100℃的低温下制备的ITO薄膜电阻率为7.3×10-4Ω·cm、可见光范围内平均透光率为89.4％.在氩气气氛中200℃低温退火60 min后,ITO薄膜的电阻率降为3.8 ×10-4Ω·cm,透光率不变.
关键词:
ITO薄膜
,
射频磁控溅射
,
电阻率
