李铂
,
周建江
,
夏伟杰
,
吴连慧
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142904.0605
直线是机载座舱显示画面中最基本的图元,其显示质量对于整个画面的显示效果影响较大,尤其是小角度下直线显示的“麻花”现象一直是影响显示效果的关键问题之一.为了提高小角度下直线的显示效果,本文提出了一种基于Wu算法的亮度渐变改进算法.该算法通过渐进地展现直线从轴方向上的亮度变化过程,减少亮度畸变,有效地改进了显示效果.通过Matlab仿真和FPGA实现,验证了该算法反走样后的小角度直线显示效果明显优于其他算法,而且结合中点画线法后,绘制时间与Wu算法相当.同时该算法还可改善大角度直线和圆弧的显示效果,消除了大角度直线的边缘锯齿,解决了圆弧在小角度部分的虚化问题.因此本文算法可用于对实时性和显示效果要求高的机载座舱显示系统,以缓解飞行员的视觉疲劳.
关键词:
座舱显示
,
反走样
,
改进Wu算法
,
小角度
,
FPGA实现
肖剑荣
,
徐慧
,
李幼真
,
刘雄飞
,
马松山
,
简献忠
中国有色金属学报
使用CF4和CH4为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,制备了a-C:F:H薄膜样品.采用拉曼光谱仪、傅里叶变换红外光谱仪、X射线光电子能谱仪(XPS)对薄膜的结构进行了测试和分析.研究发现:该膜呈空间网状结构,膜内碳与氟、氢的结合主要以sp3形式存在,而sp2形式的含量相对较少;在薄膜内主要含有C-Fx(x=1,2,3)、C-C、C-H2、C-H3等以及不饱和C=C化学键;同时,薄膜中C-C-F键的含量比C-C-F2键的含量要高.在不同功率下沉积的薄膜,其化学键结构明显不同.
关键词:
a-C:F:H薄膜
,
等离子体增强化学气相沉积
,
低介电常数
,
化学键
弭群
,
曹丽云
,
黄剑锋
航空材料学报
doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2010.4.014
以磷酸为填充液与改性剂,采用微波水热法对碳/碳 (C/C)复合材料进行了抗氧化改性.主要研究了微波水热反应温度、时间对改性C/C复合材料的结构及抗氧化性能的影响.研究结果表明:浸渍磷酸后材料抗氧化性能得到明显改善,微波水热改性是提高C/C复合材料抗氧化性能的一种有效途径;复合材料的抗氧化性能在120~210℃的水热改性范围内随着温度的升高而提高;经 4h水热处理后材料的抗氧化性能达最佳;在210℃/4h微波水热处理后的C/C复合材料在700℃的空气气氛中氧化10h后的质量损失为9.47%,相对未改性的C/C复合材料抗氧化效果明显增加.
关键词:
碳/碳复合材料
,
微波水热法
,
抗氧化
,
改性
杨德俊
,
李旭
,
李强国
,
肖圣雄
,
张应军
,
黄熠
中国稀土学报
将六水氯化钐,水杨酸与硫代脯氨酸3种物质一起反应,制得了一种新的稀土三元固体配合物[Sm(C7H5O3)2(C4H6NO2S)]·2H2O(s).通过红外光谱、热重差热分析、元素分析等手段确定了其结构与组成.在常压、298.15 K下,分别测定了六水氯化钐、水杨酸、硫代脯氨酸和该配合物在混合溶剂(二甲亚砜:乙醇:3 mol·L-1HCI=1:1:1)中的溶解焓,并根据热化学原理得出了298.15 K时配合物[Sm(C7H5O3)2(C4H6NO2S)]·2H2O(s)的标准摩尔生成焓△fHθm=(-2913.73±3.10)kJ·moL-1.
关键词:
稀土配合物
,
六水氯化钐
,
硫代脯氨酸
,
水杨酸
,
热化学
戚学贵
,
陈则韶
,
王冠中
,
廖源
无机材料学报
数值模拟了C-H-O和C-H-N体系的气相化学,构建了含氧和含氮气源化学气相沉积金刚石膜的三元相图,探讨了加氧和加氮影响金刚石膜生长的途径.结果表明,甲基是金刚石生长主要的前驱基团,乙炔导致非金刚石碳沉积,原子氢刻蚀非金刚石碳.通过气相反应改变这些基团的浓度是加氧的一个重要作用途径,而加氮在改变这些基团浓度的同时,CN等含氮基团还强烈地参与了金刚石膜成核和生长的表面过程.
关键词:
化学气相沉积
,
diamond films
,
gas phase chemistry
,
phase diagram
戚学贵
,
陈则韶
,
王冠中
,
廖源
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.02.024
数值模拟了C-H-O和C-H-N体系的气相化学,构建了含氧和含氮气源化学气相沉积金刚石膜的三元相图,探讨了加氧和加氮影响金刚石膜生长的途径.结果表明,甲基是金刚石生长主要的前驱基团,乙炔导致非金刚石碳沉积,原子氢刻蚀非金刚石碳.通过气相反应改变这些基团的浓度是加氧的一个重要作用途径,而加氮在改变这些基团浓度的同时,CN等含氮基团还强烈地参与了金刚石膜成核和生长的表面过程.
关键词:
化学气相沉积
,
金刚石膜
,
气相化学
,
相图
吴连慧
,
周建江
,
夏伟杰
,
陈雅雯
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153001.0163
对于光栅化的三角形,其边缘存在明显的锯齿现象,因此需要进行反走样处理.基于Wu直线反走样算法的思想,考虑了水平直线外侧直接添加插值点的算法和三角形三边外侧反走样的算法.综合两者的优点,在绘制光栅化的三角形的同时,边缘叠加Wu反走样直线,并考虑背景像素灰度值的作用.结果表明,改进的三角形光栅化的边缘反走样算法有效提高了三角形光栅化后边缘的显示效果,该算法计算量小,便于FPGA实现,可用于对图形显示质量要求很高的机载显示系统.
关键词:
反走样
,
Wu算法
,
光栅化
,
FPGA