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联咪唑镍、镉配合物的合成、晶体结构及其与DNA相互作用

杨莉宁 , 黑嘉慧 , 成昭 , 李立 , 余丽丽

应用化学 doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2016.06.150350

分别通过水热法和室温挥发法合成了2,2′-联咪唑(H2biim)镍、镉配合物([Ni(H2biim)3] (phth)(phth,邻苯二甲酸根)(1)、[Cd(H3biim)2Cl4](2)),并通过X射线单晶衍射、元素分析和红外等技术手段对它们进行了表征.单晶X衍射结果表明,配合物1的配离子中心镍离子周围的配体以3个中性联咪唑分子形式分别进行二齿螯合配位,构成六配位的畸变八面体构型,邻苯二甲酸根离子在外界与配体形成丰富的氢键;而在配合物2中,两个联咪唑配体却以含有氢质子的阳离子H3biim+形式与中心镉离子单齿配位,镉离子同时结合4个氯原子形成六配位配位环境.通过紫外光谱、荧光光谱和黏度法测试结果表明配合物1和2分别与小牛胸腺DNA(ct-DNA)以经典插入和部分插入模式进行相互作用.

关键词: 联咪唑 , 镍、镉配合物 , 晶体结构 , DNA

慧差对矢量偏振贝塞耳-高斯光束聚焦场的影响

赵肇雄 , 刘勇

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2009.06.001

利用Richarda-Wolf矢量衍射积分公式,获得矢量偏振贝塞耳-高斯光束经具有初级慧差的高数值孔径系统聚焦后的三维光场复振幅函数,模拟了不同慧差系数下聚焦光场的纵向分布,以及焦平面和光轴上的光强.研究表明,初级慧差的存在导致矢量偏振贝塞耳-高斯光束的会聚光场发生偏移和变形,焦平面光强的分布和光轴上的光强峰值都受初级慧差和入射光偏振态的共同影响,偏振态和初级慧差不影响聚焦光场在光轴上的对称分布.

关键词: 物理光学 , 贝塞耳-高斯光束 , Richards-Wolf矢量衍射积分 , 径向偏振 , 方位角偏振 , 慧差

电镀黑铬工艺

文斯雄

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2003.09.011

介绍了电镀黑铬镀层的性能及类型,对电镀黑铬工艺配方、工艺参数及镀液维护和常见故障产生的原因作了阐述.

关键词: 电镀黑铬 , 工艺配方及参数 , 维护 , 故障

嘉铜出丹阳

李延祥

金属世界 doi:10.3969/j.issn.1000-6826.2000.01.012

关键词:

电镀银黑化工艺研究

朱海刚 , 朱建林

电镀与涂饰

研究了黄铜基体上镀银的黑化工艺,讨论了黑化温度、时间、黑化荆浓度对黑化层外观的影响,确定了黑化的最佳工艺为:多硫化铵15 mL/L,温度80℃,时间120s.黑化层烘干后用铜刷刷光,镀层不起皮,且色泽更加光亮.耐热试验表明,黑化层耐热效果较好,能满足须黑化的零部件的要求.

关键词: 镀银 , 黑化工艺 , 黑化剂 , 多硫化铵

深黑古银工艺

陶森

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.03.008

介绍了氰化镀银配方及操作条件,给出了一种银上着色深的黑化剂配方及其后处理工艺.本工艺方便、快捷,成本低,膜层结合力好,符合欧盟环保法规要求.

关键词: 氰化镀银 , 黑化剂 , 后处理 , 结合力 , 欧盟 , 环保法规

实用镀黑铬工艺

李贤成

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2002.05.015

介绍了一种镀黑铬工艺.阐述了镀液中各成分的作用及镀液的维护,分析了常见故障的原因并提出了解决方法.

关键词: 镀黑铬

枪黑电镀工艺及应用

尚书定

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2000.04.008

详细介绍了枪黑电镀工艺全过程,包括配方、溶液配制、工艺规程及操作注意事项等.

关键词: 枪黑 , 仿古铜 , 抛光

黑铜中银的分析方法研究

陈小燕

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2004.05.016

研究了黑铜中银的分析测定方法.黑铜试样以高氯酸分解,在高氯酸-硫脲介质中,用火焰原子吸收光谱法测定银.该方法测定的标准加入回收率为98.4%～104.3%.

关键词: 黑铜 , 高氯酸 , 火焰原子吸收 , 银

紧固件的黑化处理

徐桂英 , 周晓霜

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2003.04.015

通过集传统的氧化,磷化工艺与一体化的试验研究,确定一种黑化处理的新型工艺,以期应用于紧固件的黑化处理中.

关键词: 黑化 , 磷化 , 氧化