邱胜桦
,
陈城钊
,
刘翠青
,
吴燕丹
,
李平
,
林璇英
,
黄翀
,
余楚迎
功能材料
以SiH4/H2为气源,用PECVD沉积技术,在低温(200℃)、高压下(230Pa)下制备出优质纳米晶硅薄膜.研究氢在高速生长纳米晶硅薄膜材料中的作用.实验表明,氢对纳米晶硅薄膜的高速生长起到非常关键的作用.随着氢稀释率由95%提高至99%,薄膜的晶化率由30%增大到70%,晶粒尺寸由3.0nm增大至6.0nm,而沉积速率却由0.8nm/s降低至0.3nm/s.
关键词:
纳米晶硅薄膜
,
氢稀释
,
晶化率
,
RF-PECVD
黄翀
,
李成
,
欧阳艳东
,
刘骥
,
吴永俊
功能材料与器件学报
Al薄膜作为钼/铝/钼三层金属桥的中间层,在电容式触摸屏中起到ITO图形搭桥的作用.金属Al在可见光范围内具有较高的反射率,导致在电容屏上有金属桥的部分反射率大于周边没有金属桥的部分,影响屏幕的显示效果.为了减少Al薄膜的反射率,可以采取增大Al薄膜表面粗糙程度的办法,增加漫反射.在不同的直流磁控溅射工艺下制备了表面粗糙度不同的Al薄膜,并分析了引起粗糙度不同的原因.得出了解决金属桥影问题的工艺条件.
关键词:
触摸屏
,
表面粗糙度
,
Al薄膜
黄翀
,
周学平
,
欧阳艳东
,
吴建宏
,
黄远明
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.01.017
在玻璃衬底上制备浮雕型全息光栅作为液晶显示器件取向层,分析了液晶层厚度对液晶分子在光栅取向层上排列的影响.发现液晶层厚度约为8μm时,液晶分子是沿光栅沟槽方向一致排列,其显微织构均匀,各点光强均匀一致,两个相同光强的状态周期为90°,周期性的微沟槽是促使液晶分子取向一致的主要原因.
关键词:
浮雕型全息光栅
,
液晶分子排列
,
取向层
欧阳艳东
,
黄翀
,
余云鹏
,
林舜辉
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.04.020
通过测量ITO玻璃及偏光片对各波段紫外光的光谱特性,分析比较一般偏光片和防紫外偏光片F1225DU的紫外透射光谱,从而说明新型偏光片的防紫外特性.F1225DU对紫外线有比较好的吸收,能挡住各种波长的紫外光,起防止紫外光破坏液晶显示器件的作用.
关键词:
偏光片
,
紫外光
,
液晶显示器
,
透射光谱
石旺舟
,
黄翀
,
姚若河
,
林揆训
,
林璇英
功能材料
采用OMA-4000测量了SiH4射频辉光放电等离子体的光发射谱,研究了其谱线强度随放电射频功率和反应气体流量间的变化关系.发现在放电射频功率增加和反应气体流量升高的过程中,其等离子体状态分别发生性质不同的转变,这种转变联系到射频功率耗散机制的变化.当反应气体流量增加时,电子获得能量的机制由阴极暗区加速转变为等离子体内电场的加热效应;而在放电功率升高的过程中,离子轰击阴极产生二次电子发射效应导致了光发射谱强度急剧增强的转变.
关键词:
SiH
,
射频辉光放电
,
功率耗散
,
光发射谱
欧阳艳东
,
黄翀
,
林旭升
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.01.028
用紫外/可见分光光度计测定由DCG记录的透射式体全息窄带带阻滤光器的光谱特性,分析其滤波特性.测量结果分析表明,滤光器有较窄的带宽,其半宽度小于13nm,1/10宽度小于19nm.在400-800nm可见光区域,对其主谱线的相对透过率小于2%,其它谱线的相对透过率大于85%.对半导体泵浦激光器主谱线532.0nm有优良的滤光特性.
关键词:
窄带滤光器
,
全息
,
光学特性
徐世艾
材料导报
黄原胶是一种生物高分子,广泛应用于30多个行业.综述了黄原胶的生物化学、发酵工艺、产品后处理及其应用等方面的进展.
关键词:
黄原胶
,
发酵
,
工程
,
后处理
,
应用
刘玉婷
,
尹大伟
,
吕博
,
刘聪
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.10.028
以黄成色剂为母体,环状酰肼为显影促进基团,分别以6-氨基苯并咪唑和苯基巯基三氮唑为吸附基团,合成了2种新型DAR 成色剂,产率分别为60.8%和48.2%. 其结构经IR、1H NMR、MS和元素分析测试技术得到确证. 实验结果表明,合成的DAR 成色剂在提高感光度时不会增大灰雾密度.
关键词:
DAR成色剂
,
吸附基团
,
显影促进基团
,
合成