黄美东
,
董闯
,
宫骏
,
卢春燕
,
孙超
,
黄荣芳
,
闻立时
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2001.06.016
在不同基体负偏压作用下,用阴极电弧离子镀等离子体物理气相沉积(PVD)方法在单晶Si(100)基片上获得六方晶系的晶态AlN薄膜用X射线衍射仪分析了沉积膜的物相组成和晶格位向随偏压的变化,在扫描电子显微镜(SEM)下观察沉积膜的显微组织形貌.结果表明,在较小偏压下,AlN膜呈(002)择优取向,表面致密均匀;在较大偏压下,AlN膜呈(100)择优取向,表面形貌则粗糙不平.AlN薄膜的择优取向及表面形貌受到不同偏压下不同离子轰击能量的影响.
关键词:
偏压
,
阴极电弧离子镀
,
物理气相沉积
,
AlN薄膜
刘野
,
黄美东
,
路少怀
,
吴功航
,
李洪玉
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2013.05.009
采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响.结果表明,氮气压强对TiN薄膜的色泽有明显的影响和控制作用.随着氮气分压的增大,薄膜的色泽由浅黄色向红棕色变化.实验发现,基体偏压对膜层的色泽也有一定的影响,当氮气分压一定时,施加偏压所得TiN薄膜比不施加的颜色更浅.可见,通过调节基体偏压和氮气流量,可以获得所需颜色的TiN薄膜.
关键词:
多弧离子镀
,
TiN薄膜
,
色泽
,
氮气分压
,
基体偏压
王冰
,
宫骏
,
黄美东
,
孙超
,
黄荣芳
,
闻立时
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.04.001
采用电弧离子镀在新型γ′-Ni3Al基高温合金IC-6上沉积Ni-Cr-Al-Y和Ni-Co-Cr-Al-Y涂层，研究了合金元素对MCrAlY涂层性能及元素行为的影响，结果表明：在沉积过程中，合金中的Al和Mo元素抑制了Cr从涂层向基体扩散，使涂层中的Cr维持在较高浓度；真空扩散处理时，涂层和基体之间发生互扩散，使涂层-基体元素浓度呈梯度分布，减小了涂层和基体热膨胀系数的差别，同时，涂层的相结构也发生变化。γ′-Ni3Al和γ-Ni 仍是涂层的主要相，但是由于Cr原子的取代作用致使晶格常数α0发生变化，等温氧化实验表明：Ni-Cr-Al-Y和Ni-Co-Cr-Al-Y涂层氧化规律遵循抛物线规律。900 ℃静态空气等温氧化时，Ni-Cr-Al-Y涂层中加入Co对其抗氧化性能的影响不大。1 000 ℃静态空气等温氧化时，Ni-Cr-Al-Y涂层中加入Co后，降低了其抗氧化性。
关键词:
MCrAlY涂层
,
真空扩散
,
互扩散
,
氧化
黄美东
,
林国强
,
董闯
,
孙超
,
黄荣芳
,
闻立时
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2001.04.018
较详细地考察了电弧离子镀时影响基体沉积温度的因素及影响程度,应用能量平衡原理建立了计算基体沉积温度的数学模型.采用该计算模型分析了基体材质、形状与电弧离子镀膜工艺参数改变时基体温度的变化,经实验验证,模型计算与实验数据基本吻合.
关键词:
计算
,
基体温度
,
电弧离子镀
杜姗
,
黄美东
,
刘春伟
,
唐晓红
,
吕长东
表面技术
采用射频反应磁控溅射方法制备氧化钒(VOx)薄膜,对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和可见光波段的透过率进行表征,研究了在沉积气压一定的情况下,氧氩流量比对氧化钒薄膜结构和光学性能的影响.结果表明,改变氧氩流量比可明显改变薄膜结构,随着氧气比例的增加,沉积速率下降,薄膜表面出现了颗粒结构,颗粒尺寸具有增大的趋势,光透过率增大.
关键词:
氧化钒薄膜
,
氧气流量
,
氩气流量
,
反应磁控溅射
王冰
,
孙超
,
黄美东
,
宫骏
,
黄荣芳
,
闻立时
中国腐蚀与防护学报
doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2002.01.012
测定了IC-6高温合金在900℃～1100℃的氧化动力学曲线.结果表明:900℃,IC-6合金的氧化膜主要由α-Al2O3、NiAl2O4和NiO构成并含有少量的NiMoO4和MoO2.1050℃和1100℃氧化时,IC-6合金表面生成了挥发性很强的MoO 3,发生了氧化失重.IC-6合金上沉积NiCoCrAlY涂层后,900℃时,涂层的氧化膜主要为α-Al2O3;1050℃时,氧化膜主要为α-Al2O3和Cr2O3,大大改善了合金的抗氧化性.1100℃时,氧化膜主要由α-Al2O3、NiAl2O4和NiO构成,涂层虽然有一定的保护性,但效果不如900℃和1050℃时显著.形成以α-Al2O3和Cr2O3为主的氧化膜是使合金沉积NiCoCrAlY涂层后抗氧化能力大大提高的直接原因.
关键词:
IC-6高温合金
,
氧化
,
MCrAlY涂层
,
防护
黄美东
,
许世鹏
,
刘野
,
薛利
,
潘玉鹏
,
范喜迎
表面技术
采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响.结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降.当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大；负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高.
关键词:
电弧离子镀
,
TiAlN薄膜
,
负偏压
黄美东
,
孙超
金属学报
利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN 硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能。结果表明，与直流偏压相比，脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度，大大减少薄膜表面的大颗粒污染，改善表面形貌，而薄膜的综合力学性能仍保持良好，说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径。
关键词:
电弧离子镀
,
null
,
null
张臣
,
黄美东
,
陈泽昊
,
王萌萌
,
王宇
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.10.004
目的：( Ti,Cu) N薄膜是一种新型的硬质涂层材料,关于其结构和性能的研究报道还较少。研究脉冲偏压对( Ti,Cu) N薄膜结构与性能的影响规律,以丰富该研究领域的成果。方法将多弧离子镀和磁控溅射离子镀相结合构成复合离子镀技术,采用该技术在不同脉冲偏压下于高速钢基体表面制备( Ti,Cu) N薄膜。分析薄膜的微观结构,测定沉积速率及薄膜显微硬度,通过摩擦磨损实验测定薄膜的摩擦系数。结果在不同偏压下获得的(Ti,Cu)N薄膜均呈晶态,具有(200)晶面择优取向,当脉冲偏压为-300 V时,薄膜的择优程度最明显。随着脉冲偏压的增加,薄膜表面大颗粒数量减少且尺寸变小,表面质量提高；沉积速率呈现先增大、后减小的趋势,在脉冲偏压为-400 V时最大,达到25.04 nm/min；薄膜硬度也呈现先增大、后减小的趋势,在脉冲偏压为-300 V时达到最大值1571.4 HV。结论脉冲偏压对复合离子镀( Ti,Cu) N薄膜的表面形貌、择优取向、沉积速率和硬度均有影响。
关键词:
复合离子镀
,
(Ti,Cu) N薄膜
,
脉冲偏压
,
表面形貌
,
结构
,
力学性能
