黄照昊
,
罗康碧
,
李沪萍
硅酸盐通报
磷石膏是湿法磷酸生产中的副产物之一.本文介绍了磷石膏中所包含杂质的种类和影响.杂质可划分为磷杂质,氟杂质,有机物杂质和其他杂质;磷杂质会降低晶体间的结合力,阻碍磷石膏的转化,同时会降低磷石膏在建筑中的水化率,氟杂质可加快建筑石膏的凝结速度,使得二水石膏晶体粗化,有机物杂质使磷石膏胶结材料需水量增加,其他杂质会对人身体和环境造成破坏.以及介绍了不同杂质的除去方法,化学法、物理法、热处理法.并归纳了主要方法的优缺点.
关键词:
磷石膏
,
杂质影响
,
除去方法
徐世艾
材料导报
黄原胶是一种生物高分子,广泛应用于30多个行业.综述了黄原胶的生物化学、发酵工艺、产品后处理及其应用等方面的进展.
关键词:
黄原胶
,
发酵
,
工程
,
后处理
,
应用
李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜, 研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响。结果表明, 高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃, 当入射基板离子数和Ti原子数的比值J/JTi≥4.7时, 沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长, 薄膜微观结构致密, 硬度达到25GPa, 残余压应力小。
关键词:
TiN薄膜
,
null
,
null
李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.016
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值Ji/JTi≥4.7时,沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长,薄膜微观结构致密,硬度达到25 GPa,残余压应力小.
关键词:
TiN薄膜
,
物理气相沉积(PVD)
,
择优取向
,
离子照射
刘长仕
黄金
doi:10.11792/hj20140715
针对吉林四平昊融银业有限公司选矿厂存在精矿品位和回收率不理想等问题，进行了顺序返回流程、浮选-中矿再磨流程试验研究。根据试验结果进行了工艺流程改造，由原分步混合浮选流程改为顺序返回流程，并对药剂制度进行了调整，使银、金回收率和精矿品位都得到提高，银、金回收率分别提高1．1％、0．9％。
关键词:
银矿
,
金
,
银
,
回收率
,
流程改造
刘福刚
黄金
doi:10.11792/hj20160315
针对四平昊融银业选矿厂磨矿分级流程存在球磨机处理量低、分级系统冗杂、分级效率低以及矿浆流量、渣浆泵与旋流器匹配不稳定等问题及选矿厂扩能增产的需要，进行了技术改造。通过对磨矿分级工艺及设备的改造优化，解决了流程中存在的问题，并提高了原矿处理量及浮选的浓度、细度，节约了能源，同时银、金的金属回收率分别提高0．5％和1％，年创产值1500万，经济效益显著。
关键词:
银
,
磨矿分级工艺
,
技术改造
,
生产实践
刘玉婷
,
尹大伟
,
吕博
,
刘聪
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.10.028
以黄成色剂为母体,环状酰肼为显影促进基团,分别以6-氨基苯并咪唑和苯基巯基三氮唑为吸附基团,合成了2种新型DAR 成色剂,产率分别为60.8%和48.2%. 其结构经IR、1H NMR、MS和元素分析测试技术得到确证. 实验结果表明,合成的DAR 成色剂在提高感光度时不会增大灰雾密度.
关键词:
DAR成色剂
,
吸附基团
,
显影促进基团
,
合成
