赖俐超
,
张丰如
,
唐春保
,
郭远凯
,
黄业
材料保护
为了除去电解铜箔生箔电解液中微量的铅,实现电解液的循环利用,提出了一种加入氢氧化钡-活性炭联合处理除铅的方法.研究了各因素对除铅效果的影响,分析了除铅机理,确定了联合处理除铅的工艺条件.结果表明:使用该工艺处理生箔电解液,在氢氧化钡用量为电解液中铅质量25倍时,2g/L活性炭,50℃,处理40min,铅去除率可达99.31%.该工艺操作方便、处理简单、除铅效果好,延长了电解液和钛铱阳极的使用周期,降低了生产成本.
关键词:
铜箔电解液
,
氢氧化钡
,
活性炭
,
除铅
黄业
,
左然
,
唐斌龙
,
张红
,
刘鹏
,
张国义
人工晶体学报
在氢化物气相外延(HVPE)生长GaN厚膜中,反应腔壁面总会产生大量的寄生沉积,严重影响薄膜生长速率及质量.本文针对自制的大尺寸垂直式HVPE反应器,通过数值模拟与实验对比,研究了反应腔壁面沉积以及GaN生长速率的分布规律,特别是寄生沉积分布与载气流量的关系.研究发现:在基准条件下,顶壁寄生沉积速率由中心向边缘逐渐降低,与实验结果吻合;侧壁沉积出现8个高寄生沉积区域,对应喷头边缘处排布的GaCl管,说明沉积主要取决于GaCl的浓度输运;模拟得出的石墨托表面生长速率低于实验速率,但趋势一致.保持其他条件不变,增大NH3管载气N2流量,顶壁和侧壁的寄生沉积速率及分布区域均随之增大,石墨托表面生长速率随之减小而均匀性却随之提高;增大GaCl管载气N2流量,顶壁和侧壁的寄生沉积速率及分布区域均随之减小,石墨托表面生长速率随之增大而均匀性却随之降低.研究结果为大尺寸HVPE反应器生长GaN的工艺优化提供了理论依据.
关键词:
HVPE反应器
,
GaN
,
寄生沉积
,
数值模拟
徐世艾
材料导报
黄原胶是一种生物高分子,广泛应用于30多个行业.综述了黄原胶的生物化学、发酵工艺、产品后处理及其应用等方面的进展.
关键词:
黄原胶
,
发酵
,
工程
,
后处理
,
应用
刘玉婷
,
尹大伟
,
吕博
,
刘聪
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.10.028
以黄成色剂为母体,环状酰肼为显影促进基团,分别以6-氨基苯并咪唑和苯基巯基三氮唑为吸附基团,合成了2种新型DAR 成色剂,产率分别为60.8%和48.2%. 其结构经IR、1H NMR、MS和元素分析测试技术得到确证. 实验结果表明,合成的DAR 成色剂在提高感光度时不会增大灰雾密度.
关键词:
DAR成色剂
,
吸附基团
,
显影促进基团
,
合成