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Ni-P化学镀的机理及其研究方法

张朝阳 , , 张海东 , 李兵 , 喻林霞

中国有色金属学报

Ni-P化学镀镀液体系复杂, 影响因素甚多, 因此多种Ni-P化学镀机理理论共存, 综述并评价了目前流行的几种化学镀的机理理论, 同时介绍了其研究方法.

关键词: Ni-P化学镀 , 镀镍 , 反应机理

化学镀镍活化或诱发方法

张朝阳 ,

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.06.021

综述了化学镀镍中的钯活化法、N型半导体氧化物活化法、镍有机酸盐热解活化法以及用于导体的诱发方法.并选择黄铜作为基体,通过实验比较了几种活化或诱发方法.

关键词: 化学镀镍 , 活化 , 诱发

输电线路防覆冰涂料

胡小华 , , 陈蓓 , 谢敏 , 陈宣呈

涂料工业 doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2006.03.003

用改性的硅溶胶-苯丙乳液为基料,吸光性能良好的FeMnCuOx为颜料,制备疏水防冰涂料.对所制备的涂料进行了性能检测和应用实验,结果表明:该涂料具有一定防覆冰性能,在-20~0 ℃和较高相对湿度的实验室条件下具有减缓铝线表面结冰的作用,同时该涂料还具有较好的结合力和耐候性.

关键词: 防覆冰涂料 , 输电导线 , 硅溶胶 , 乳液

H2PO2-的氧化方式与化学镀Ni-P合金历程

张朝阳 , 刘际伟 , 周利华 ,

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.02.003

硫酸镍-次亚磷酸钠体系中的化学镀反应,是一个在多相体系中进行的复杂物理-化学过程,因此,存在多种关于它的理论或看法.综合目前较为流行的几种理论认为,各种机理理论存在的最大差别在于H2PO2-被氧化方式上的差异.文中还结合自己的研究结果,认为化学沉积Ni-P合金的机理是一个"氢化物-电化学联合机理".

关键词: 化学镀Ni-P合金 , 氧化方式 , 氢化物-电化学联合机理

铜及黄铜基体上化学镀Ni-P合金诱发过程的研究

张朝阳 , , 张海东 , 肖维平 , 李兵

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.08.007

铜及黄铜基体表面的Ni-P化学镀,需要引发才能进行.无论采取活性金属在镀液中的接触引发,还是采取阴极电流诱发,都说明了铜或黄铜基体上的化学镀Ni-P合金的诱发过程是一个电化学过程,即吸附在基体表面上的Ni2+得到电子后还原成镍并沉积在基体表面,然后镍表面自催化使得沉淀反应自行进行下去.

关键词: 化学镀 , Ni-P合金 , 诱发过程 , 活性金属

纳米Cr2O3的制备及其化学复合镀层光催化性研究

耿后安 ,

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2003.12.004

采用硬脂酸凝胶法制得Cr2O3纳米晶,用差热-热重(TG-DSO分析法对制备过程进行了分析.结果表明,560℃时有机物已除去,X射线衍射(XRD)表征所得产物粒径为27nm刚玉型Cr2O3,比表面法(BET)测得比表面为84.3m2/g.通过化学复合镀的方法固定纳米氧化铬,对不同镀层及纳米Cr2O3粉末降解次甲基蓝进行了研究,结果表明:纳米Cr2O3粉末光催化性最强.而超声波搅拌分散的镀层强于其它镀层.

关键词: 纳米Cr2O3 , 化学复合镀 , 分散方式 , 光催化降解

影响TiO2从锐钛型转变为金红石型的相变因素的研究

符春林 , , 陈立军 , 鲜晓红 , 洪韬

涂料工业 doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2002.02.005

考察了V2O5、MoO3、醋酸及钾盐对TiO2由锐钛型向金红石型转变的影响.在相同条件下,V2O5对转化的促进作用优于MoO3,并且转化率随V2O5用量的增加而增大,适当使用醋酸和钾盐,也可促进TiO2由锐钛型到金红石型的相变过程.

关键词: 二氧化钛 , 相变 , 锐钛型 , 金红石型

化学镀Ni-P合金的氢化物-电化学联合机理

张朝阳 , , 刘际伟 , 周利华

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2002.05.007

在NiSO4-NaH2PO2体系中的化学镀反应,是一个在多相体系中进行的复杂物理-化学过程,因此,存在多种关于它的理论或看作者采用量子化学方法研究证实,在化学镀镍过程中,镍能有效地夺取H2PO2-中的活泼氢并能与之形成氢化物;并通过诱发铜片化学镀镍实验证实化学镀Ni-P合金中必然存在电化学步骤.据此,作者认为化学沉积Ni-P合金的机理是氢化物-电化学联合机理.

关键词: 化学镀Ni-P合金 , 氢化物 , 电化学 , 氢化物-电化 学联合机理

多孔硅的表面吸附性能的研究

胡小华 , 施琼玲 , , 黎学明

功能材料

通过量子化学的DFT方法,采用模型化学方法和Gaussion 03程序,计算了由不同数目硅原子组成的模型分别吸附某几种氢原子、氧原子、硝酸根的模型和多孔硅表面可能存在的SiH,类物质自由基或分子碎片的红外光谱进行了计算,考察了各模型吸附前后的电荷集居数和红外振动光谱,计算结果表明多孔硅表面吸附氢原子、氧原子以及硝酸根可以削弱相关Si—Si键,导致硅氢氧化合物出现,从而氧化或断裂生成Si--H或Si-O-类分子碎片而引起爆炸。

关键词: 多孔硅 , 吸附 , 爆炸

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