李万俊
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孔春阳
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秦国平
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阮海波
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杨天勇
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梁薇薇
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孟祥丹
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赵永红
材料导报
获得高质量稳定的p型ZnO薄膜是实现ZnO基光电器件化的关键.目前,国际上公认V族元素中的N替代O位(No)是实现p型ZnO较理想的掺杂途径.但p-ZnO:N薄膜的导电性能会随着时间、光照、温度条件发生变化,稳定性不足.大量的理论和实验研究表明N基二元共掺( N-X)可以提高N在ZnO薄膜中的固溶度,浅化N的受主能级,且在很大程度上能够改善p型ZnO的导电性能,有利于获得稳定的p型ZnO薄膜.为此,从N基施主受主共掺、双受主共掺以及其它共掺方面综述了N-X共掺p型ZnO薄膜的研究现状.
关键词:
p型ZnO薄膜
,
N-X共掺
,
稳定性
谌夏
,
方亮
,
吴芳
,
阮海波
,
魏文猴
,
黄秋柳
材料导报
采用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备了掺杂浓度为0.5％(原子分数)的ZnO∶Sn(TZO)薄膜,研究了不同衬底温度下薄膜的结构、形貌、电学和光学的性能.研究发现,TZO薄膜沿着C轴择优生长,在400℃时结晶度最好,最低电阻率为2.619×10-2Ω·cm,在可见光范围内具有较好的透光率.
关键词:
Sn掺杂ZnO薄膜
,
射频磁控溅射
,
光学性质
,
电学性质
滕晓慧
,
庄立军
,
李文慧
钢铁钒钛
doi:10.7513/j.issn.1004-7638.2016.02.013
用焦亚硫酸钠、海波上层液分别处理沉钒废水,研究表明:海波上层液还原沉钒废水COD高达2 878 mg/L,远超排放标准;用焦亚硫酸钠还原沉钒废水,中和、沉淀能够获取低COD废水、低铁含铬渣.用焦亚硫酸钠处理沉钒废水工业运行技术条件:焦亚硫酸钠加入倍数3.1 ～3.2,还原反应时间15 ～ 30 min.处理后废水经汽提脱氨塔脱氨后,排向污水处理厂的废水未检出六价铬,COD平均值65 mg/L,符合辽宁省地方排放标准《污水综合排放标准》DB21/1627-2008排放限值,所得含铬渣中铁含量较低(以Fe2O3计0.27％),铬含量高(以Cr2O3计41.6％).含铬渣经煅烧窑煅烧、炉外法冶炼出牌号JCr95金属铬(Cr≥95％)产品,质量合格.
关键词:
沉钒废水
,
海波上层液
,
焦亚硫酸钠
,
还原
,
COD
,
含铬渣
,
金属铬
