马瑞新
,
李士娜
,
锁国权
,
任磊
材料科学与工艺
为明确溅射偏压对ITO薄膜性质的影响,用射频磁控溅射法于室温在玻璃衬底制备出ITO透明导电薄膜,研究了不同偏压下ITO薄膜的生长模式、光学和电学性能.结果表明：随着偏压的增加,薄膜沉积模式经历了沉积、沉积和扩散、表面脱附3种方式;AFM和SEM显示,偏压为100 V时,膜层表面光洁、均匀,粗糙度最小,均方根粗糙度为1.61 nm;XRD分析表明偏压会影响与薄膜的择优取向,偏压为100 V时,薄膜晶粒取向为（222）面;薄膜偏压为120 V时,薄膜的光电性能最佳,电阻率最低为2.59×10-4Ω.cm,可见光区的平均透过率在85%以上;偏压的大小使薄膜的吸收边发生了＂蓝移＂或＂红移＂.
关键词:
ITO薄膜
,
偏压
,
生长模式
,
微观结构
,
光电性能
材料热处理学报
武汉大学中国科学评价研究中心、武汉大学图书馆、中国科教评价网联合发布了《中国学术期刊评价研究报告（2011—2012）：RCCSE权威期刊、核心期刊排行榜与指南》,于2011年8月由科学出版社正式出版发行。《材料热处理学报》再次被评为＂RCCSE中国权威学术期刊（A＋）＂。此次参评的学术期刊多达6400种,分学科进行排序,并按一定比例分为：A＋、A、A-、B＋、B、C 6个等级,其中排名前5%为权威期刊共312种。本报告内容全面、系统,结果权威、可靠,是目前国内最详细、
关键词:
学术期刊
,
材料热处理
,
权威
,
中国
,
学报
,
科学评价
,
武汉大学
,
大学图书馆
王浩
,
刘国权
,
秦湘阁
稀有金属材料与工程
设计了晶粒尺寸分别呈β=2.96与β=3.47的Weibull分布的2种3D初始晶粒组织,采用Pons模型Monte Carlo改进算法进行了界面曲率驱动的3D晶粒长大过程的仿真研究.晶粒仿真长大过程遵循抛物线长大规律,且晶粒生长指数非常接近于理论值0.5.仿真结果表明:源于2种初始组织所得准稳态晶粒尺寸均趋于β=2.80±0.03的同种Weibull分布,准稳态晶粒面数则均呈对数正态分布.进一步分析发现,刘国权及其合作者近年来基于不同长大速率理论模型导出的两类3D准稳态晶粒尺寸分布函数与本文仿真实验所得数据相互吻合.
关键词:
三维晶粒长大
,
Monte Carlo仿真
,
晶粒尺寸分布
