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SiC颗粒增强铝基复合材料基材上制备(Ti,Al)N涂层的研究

郑静地 , 友生 , 宋贵宏 , 宫骏 , 刘越 , 孙超 , 闻立时

金属学报

利用电弧离子镀技术在SiCp/2024Al基体上制备(Ti,Al)N涂层. 研究了偏压对涂层的相组成、晶格常数和成分的影响及不同过渡层对涂层与基体结合性 能的影响. 结果表明, 在较小偏压下, (Ti,Al)N涂层呈(111)择优取向; 偏压在--150 V时, 涂层无择优取向; 但随偏压继续升高, 出现(200)和 (220) 择优取向. 在添加Ti过渡层时, 涂层与基体形成致密均匀的良好结合. 同时通过设计梯度涂层, 获得了厚度达105 um的无裂纹(Ti,Al)N涂层.

关键词: (Ti , Al)N coating , SiCp/Al composite , arc ion plating

气体介质对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响

友生 , 汪伟 , 宋贵宏 , 汪爱英 , 孙超 , 黄荣芳 , 闻立时

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.06.014

采用电弧离子镀方法,在Si(100)基底上分别在高纯Ar、高纯H2和C2H2的气氛下沉积类金刚石膜,利用激光Raman谱和X射线光电子能谱(XPS)对沉积膜的结构进行了分析.结果表明与在高纯H2和C2H2气氛下相比,在高纯Ar中沉积类金刚石膜Raman谱的ID/IG值最小,膜中sp3C含量最高为35.55%.纳米压痕仪测量结果表明不同气氛下沉积膜的硬度和弹性模量分别在16.7~34.8GPa和143.2~236.9GPa之间变化.在高纯Ar气氛下沉积膜的硬度和弹性模量最大分别为34.8GPa和236.9GPa.

关键词: 电弧离子镀 , 类金刚石膜 , 微观结构 , 力学性能

SiC颗粒增强铝基复合材料基材上制备(Ti,Al)N涂层的研究

郑静地 , 友生 , 宋贵宏 , 宫骏 , 刘越 , 孙超 , 闻立时

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2004.07.014

利用电弧离子镀技术在SiCp/2024Al基体上制备(Ti,Al)N涂层.研究了偏压对涂层的相组成、晶格常数和成分的影响及不同过渡层对涂层与基体结合性能的影响.结果表明,在较小偏压下,(Ti,Al)N涂层呈(111)择优取向;偏压在-150 V时,涂层无择优取向;但随偏压继续升高,出现(200)和(220)择优取向.在添加Ti过渡层时,涂层与基体形成致密均匀的良好结合.同时通过设计梯度涂层,获得了厚度达105 μm的无裂纹(Ti,Al)N涂层.

关键词: (Ti , Al)N涂层 , 复合材料 , 电弧离子镀 , 偏压

HFCVD金刚石薄膜温度场的数值研究

汪爱英 , 孙超 , 友生 , 黄荣芳 , 闻立时

金属学报

热丝化学气相沉积(HFCVD)生长金刚石膜过程中,在热丝相关工艺参数取优化值的前提下,对热辐射平衡体系中衬底表面辐照度和衬底温度的空间分布进行了模拟计算,探讨了衬底横向热传导对衬底温度分布的影响.结果表明,在绝热边界和1000 K恒温边界条件下,热传导都使衬底温度的空间分布均匀性明显优于纯热辐射下的温度分布.这些计算结果为大面积高质量金刚石膜的生长进一步提供了理论基础.

关键词: 金刚石膜 , null , null , null

管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算

汪爱英 , 纪爱玲 , 友生 , 孙超 , 黄荣芳 , 闻立时

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2002.06.014

在热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石膜的传统管道反应器中,对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算.结果表明,管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀;在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后,管道壁温度分布的均匀性大大提高;进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度,并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布.

关键词: 热丝化学气相沉积 , 金刚石膜 , 温度场 , 模拟计算

PECVD制备掺氮类金刚石薄膜的电化学特性

周凯 , 柯培玲 , 汪爱英 , 友生

材料研究学报

利用混合离子束系统,通过辉光放电等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备出类金刚石薄膜(DLC)和掺氮类金刚石薄膜(N-DLC),用可见拉曼光谱、X射线光电子能谱和扫描探针显微镜表征薄膜微观结构和表面形貌,采用电化学工作站测量了薄膜的电化学性能.结果表明,DLC薄膜的表面光滑致密、粗糙度低,掺氮增加了薄膜中的sp2团簇相并形成了C-N键,并使C-O键含量和薄膜表面的活性位点增加.N-DLC薄膜电极在硫酸溶液中的电化学势窗达4.5V和较低的背景电流(0.3±0.2μA/cm2);在铁氰化钾溶液中电极的电流响应明显,表现为受扩散控制的准可逆过程.电极具有很好的重复性和稳定性.

关键词: 无机非金属材料 , PECVD , N-DLC , 微观结构 , 电化学性能

HFCVD金刚石薄膜温度场的数值研究

汪爱英 , 孙超 , 友生 , 黄荣芳 , 闻立时

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.11.019

热丝化学气相沉积(HFCVD)生长金刚石膜过程中,在热丝相关工艺参数取优化值的前提下,对热辐射平衡体系中衬底表面辐照度和衬底温度的空间分布进行了模拟计算,探讨了衬底横向热传导对衬底温度分布的影响.结果表明,在绝热边界和1000 K恒温边界条件下,热传导都使衬底温度的空间分布均匀性明显优于纯热辐射下的温度分布.这些计算结果为大面积高质量金刚石膜的生长进一步提供了理论基础.

关键词: 金刚石膜 , 辐照度 , 温度场 , 热传导 , 热丝化学气相沉积

偏压对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响

友生 , 汪伟 , 郑静地 , 孙超 , 黄荣芳 , 闻立时

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2004.05.019

采用电弧离子镀方法,在Si(100)基底上沉积了类金刚石(DLC)膜.用激光Raman谱和X射线光电子能谱(XPS)对不同偏压下沉积的类金刚石膜的结构进行了分析.结果表明,Raman谱的D峰和G峰的强度之比ID/IG随着脉冲负偏压的增加先减小后增大,sp3键含量随着负偏压的增加先增加后减小.偏压为-200 V时,ID/IG值最小为0.70,sp3键含量最大为26.7%.纳米压痕仪测量结果表明,随着脉冲负偏压增加,硬度和弹性模量先增加后下降.偏压为-200 V时,DLC膜的硬度和弹性模量最大,分别为30.8和250.1 GPa.

关键词: 类金刚石膜 , 电弧离子镀 , 脉冲偏压 , 结构 , 力学性能

铁水包喷吹镁-碳化钙复合粉剂脱硫的数学模拟

王楠 , 友生 , 宗树

钢铁研究学报

鉴于金属镁粒和碳化钙粉这两种脱硫粉剂的物理和化学性质有着本质的区别,作者重点分析研究了镁粒在脱硫过程中的热力学、反应机理和动力学.在具体分析熔池均混时间、粉剂穿透比及粉剂停留时间这3个基本参数对脱硫过程影响的基础上,建立了能体现这3个参数影响的模拟铁水喷吹镁粒和碳化钙复合粉剂脱硫处理的数学模型,并讨论了两种粉剂在脱硫过程中的耦合效果.结合水模实验、流场计算和宝山钢铁集团公司的铁水包喷粉深脱硫生产数据确定了该模型的参数,并对其进行了验证.模型计算结果表明,复合粉剂脱硫的总速率与喷粉速率、载气流量、镁蒸汽与溶解态镁的比率等有关;镁脱硫是以溶解态镁脱硫为主;在脱硫处理的不同阶段,镁和碳化钙的相对脱硫速率不同.并依此对喷吹工艺给出了合理的建议.

关键词: 脱硫 , 镁-碳化钙复合粉剂 , 数学模型

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