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低铝高硼硅玻璃基本形成过程及性能研究

采用热重-微分热重-差示扫描量热(TG-DTA-DSC)同步热分析方法,对低铝高硼硅玻璃(ABS)熔制过程中发生的理化反应进行研究.作为比较,对普通钠钙硅玻璃(NCS)的性能做了相应的研究.通过粘度测试分析发现,所制备的低铝高硼硅玻璃软化点接近800℃,具有极好的耐热性.其工作温度和熔化温度较NCS均有大幅提高,分别为1375～1160℃和1699℃.热膨胀曲线表明所制备的ABS具有非常低的热膨胀系数, α(20～300℃)=3.9×10-6K-1,具有优良的抗热震性.

关键词: 低铝高硼硅玻璃 , 熔制过程 , 同步热分析 , 粘度

高纯金属酞菁的制备及其对TiO2光催化性能的影响研究

袁慧 , 赵高凌 , 韩高荣

功能材料

通过简易的溶液沉淀分离方法制得了纯度＞97%的高纯金属酞菁的二甲基亚砜(DMSO)溶液.应用制得产物对TiO2薄膜进行敏化,发现经酞菁铁(FePc)、酞菁钴(CoPc)、双核酞菁钴铁(CoFePc)敏化的TiO2薄膜的光催化性能分别较未经敏化的TiO2薄膜提高67.3%、63.0%、16.1%,并通过一系列的对比实验解释了双核酞菁钴铁催化效率低于前两者的原因,为后继利用酞菁敏化TiO2及其它光催化材料提供借鉴.

关键词: 金属酞菁 , 提纯 , 二氧化钛 , 光催化性能

Ti1-xVxO2薄膜的制备及光电性能

赵高凌 , 施永明 , 叶宏伟 , 韩高荣

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2002.01.011

用溶胶凝胶法制备了Ti1-xVxO2薄膜.用X射线衍射分析了Ti1-xvxO2的结晶性能.用Lambda紫外-可见光光度计测量了吸收光谱.用ZC36高阻仪测量了 Ti1-xVxO2薄膜样品的电性能.结果表明:钒含量的增加导致Ti1-xVxO2薄膜光学吸收限红移,在形成固溶体后薄膜的电阻率随钒含量增加而下降在x=0.15时.V2O5相的出现使Ti1-xVxO2薄膜的电阻率出现-峰值Ti1-xVxO2薄膜电阻率的这种变化规律是由于V的3d电子的引入和薄膜结晶性的变化

关键词: 溶胶凝胶法 , Ti1-xVxO2 , 固溶体薄膜 , 电阻率

常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究

段钢锋 , 赵高凌 , 林小璇 , 吴历清 , 杜丕一 , 翁文剑 , 汪建勋 , 韩高荣

功能材料

在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜.对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究.随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的.光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能.然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能.

关键词: 氮化钛 , 常压化学气相沉积法 , 沉积时间 , 结构 , 阳光控制性能

湿化学太阳能电池的研究及发展前景

田清华 , 施永明 , 赵高凌 , 翁文剑 , 杜丕一 , 沈鸽 , 张溪文 , 韩高荣

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z2.023

本文简要的介绍了湿化学太阳能电池的工作机理,对其光电转换效率的提高作了综述.并着重对染料敏化的TiO2胶粒薄膜光电极的制备及光电性能作了讨论.

关键词: 太阳能电池 , TiO2胶粒薄膜电极 , 染料敏化

金属诱导晶化法制备多晶硅薄膜研究进展

王瑞春 , 沈鸽 , 何智兵 , 赵高凌 , 张溪文 , 翁文剑 , 韩高荣 , 杜丕一

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2002.01.024

本文介绍了金属诱导晶化非晶态硅制备多晶硅薄膜的新方法,综述了制备金属/非晶态硅复合薄膜的各种方法与晶化结果,着重介绍了金属低温诱导的机理及其在器件应用方面的可行性.

关键词: 金属诱导 , 非晶硅 , 多晶硅 , 薄膜

氮化硼光电薄膜材料的制备及其性能研究

祁英昆 , 张溪文 , 郝天亮 , 董博 , 沈鸽 , 杜丕一 , 翁文剑 , 赵高凌 , 韩高荣

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2002.04.011

本文通过热丝辅助等离子体增强化学气相沉积法(HF-PECVD)在单晶硅片和石英片衬底上分别成功生长了氮化硼薄膜材料.用X射线衍射(XRD和傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析了薄膜样品的结构和组成,用扫描电镜(SEM)观察了薄膜样品的表面形态,用紫外一可见光分光光度计(UV)研究了薄膜样品的紫外吸收特征,并确认薄膜样品的光学能隙.此外,本文还探讨了衬底的超声预处理在薄膜材料生长中所起的作用.

关键词: 氮化硼 , 热丝辅助等离子体增强化学气相沉积 , 紫外吸收 , 衬底预处理

膜层厚度对CuPc/ZnS多层复合薄膜光电性能的影响

何智兵 , 张溪文 , 沈鸽 , 王瑞春 , 赵高凌 , 翁文剑 , 杜丕一 , 韩高荣

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.02.014

为了找到制备CuPc/ZnS多层复合膜薄膜最佳光电导性能的参数,本文研究了CuPc/ZnS多层复合膜的CuPc膜层的厚度系列、ZnS膜层的厚度系列的光电导性能和结构,利用表面电位衰减仪、紫外-可见光谱仪和X射线衍射仪等设备分析了复合薄膜的光电导性能和结构及其关系,探讨了改变CuPc、ZnS膜层的厚度对CuPc/ZnS多层复合膜薄膜的光电导性能和结构的影响.

关键词: 复合膜 , 光电导特性 , 紫外-可见光谱 , 有机/无机复合