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PECVD提高SiO2薄膜致密性的研究

郭文涛 , 谭满清 , 焦健 , 郭小峰 , 孙宁宁

人工晶体学报

为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响.实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶红外光谱仪得到SiO2薄膜的红外吸收特性,采用原子力显微镜(AFM)观察SiO2薄膜的表面形貌.通过优化各工艺参数最终获得了BOE腐蚀速率为9.18 nm/s的SiO2薄膜.

关键词: PECVD , SiO2薄膜 , 致密性 , BOE腐蚀速率

ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟

谭满清 , 陆建祖 , 李玉鉴

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.028

以实验数据为基础,运用人工神经网络方法,建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECRPlasmaCVD)淀积硅的氮、氧化物介质膜的折射率、速率与气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)关系的数学模型,此模型在给定气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)时所预测的成模折射率跟实验值符合得很好,为ECRPlasmaCVD淀积全介质光学膜的工艺打下坚实的基础.

关键词: ECRPlasmaCVD , 人工神经网络 , 气流配比 , 折射率 , 淀积速率

冶金工业出版社谭学余先生在《中国冶金通史》编撰出版启动会上的讲话

金属世界 doi:10.3969/j.issn.1000-6826.2015.01.07

关键词:

NiAl-20at%Fe合金的高温氧化与热腐蚀行为

王淑荷 , 郭建亭 , 赖万慧 , 谭明晖 , 李辉 , 孙超

中国腐蚀与防护学报

ＮｉＡｌ－２０ａｔ％Ｆｅ合金的高温氧化与热腐蚀行为王淑荷，郭建亭，赖万慧，谭明晖李辉，孙超（中国科学院金属研究所沈阳１１００１５）１引言ＮＩＡＩ金属间化合物具有熔点高、密度低、热传导性好和抗高温氧化能力优异等特点，是一种很有前途的航空航天耐热结构材料；但由于其室温塑性差，超过５００ｏＣ时的高温强度低、限制了它们的应用Ｉ‘－３ｊ．近年来发现加入Ｆｅ可提高ＮＩＡＩ的低温塑性，并提高其高温强度ｌ‘?...

关键词: null , NiAl , Ni-Al-Fe , Oxidation , Hot corrosion