谢东华
,
赖新春
,
谭世勇
,
张文
,
刘毅
,
冯卫
,
张云
,
刘琴
,
朱燮刚
稀有金属
采用Sb自助熔剂法成功生长高质量的USb2单晶,并研究了磁化率、电阻、磁阻和比热容等性质.研究表明,中等关联强度的USb2中的5f电子具有巡游和局域双重特征.USb2中的5f电子在260 K附近开始发生相干,203 K由顺磁态转变为反铁磁态,进行费米面的重构.在113 K以下局域的5f电子与传导电子发生第一次杂化使费米面附近电子结构发生变化.在54 K以下通过第二次杂化使得费米面附近形成了杂化能隙.在更低温度下晶体场效应对物理性质也产生了一定的影响.
关键词:
USb2
,
助熔剂法
,
磁化率
,
输运性质
叶林森
,
谌继明
,
谢东华
,
王锡胜
,
许泽金
,
陈伟
稀有金属材料与工程
在不同表面粗糙度的Be侧镀Ti/Cu中间层,采用热等静压技术将铍与CuCrZr合金进行扩散连接.通过AES、SEM(EDS)、室温剪切试验和XRD等分析其镀层形貌及成分、界面特性与相结构.结果表明:9 μm Ti、35 μm Cu镀层带征较为均匀,影响扩散连接强度的元素较少,采用双靶单侧镀复合膜的工艺有利于减少Ti镀层的氧化;界面剪切强度明显提高,最高可达243 MPa,Be表面粗糙度的不同对强度影响不明显;Be-Ti连接强度高,剪切断裂均发生在Cu镀层.
关键词:
表面粗糙度
,
Be
,
CuCrZr合金
,
镀层
,
热等静压
,
扩散连接
张羽廷
,
张鹏程
,
谢东华
,
王庆富
,
刘婷婷
稀有金属材料与工程
采用扫描电镜(SEM),能谱仪(EDS),X-射线衍射仪(XRD)等方法,研究了U上磁控溅射Ti镀层在600 ℃,0.5 h,150 MPa条件下热等静压(HIP)处理对其表面界面特性及界面扩散的影响.结果表明:经HIP处理后,镀层致密性提高,膜基结合强度也提高,U、Ti在界面的扩散受到压力的抑制.
关键词:
热等静压(HIP)
,
铀/钛
,
界面扩散
谢东华
,
刘柯钊
,
鲜晓斌
,
叶林森
,
陈艳平
稀有金属材料与工程
研究了不同退火温度对热等静压(HIP)纯钒组织和力学性能的影响.结果表明,纯钒的退火过程呈明显的回复、再结晶、晶粒长大3个阶段;随退火温度升高,板条状马氏体含量减少,温度高于950℃退火时板条状马氏体消失;随着退火温度的升高,纯钒的拉伸强度降低,塑性先增加后降低;塑性在950℃退火时达最大值,延伸率、断面收缩率分别为35.2%、64%.
关键词:
钒
,
热等静压
,
退火
,
组织
,
力学性能
鲜晓斌
,
叶林森
,
冷邦义
,
谢东华
,
谢茂林
,
迟永刚
稀有金属材料与工程
采用热等静压(HIP)技术制备纯钒,利用材料试验机、OM、SEM、TEM和TGA等测试纯钒的力学性能并观察其拉伸断口形貌、进行热重分析.结果表明:热等静压温度在1250 ℃以上可以实现全致密化;随温度的升高,抗拉强度、屈服强度均先降低后增加,延伸率及断面收缩率呈相反趋势变化,在1250 ℃综合性能最佳,抗拉强度、屈服强度分别为701,634 MPa,延伸率为22.4%;断口形貌表现出滑断、微孔聚集等不同的断裂方式,不同温度制备的纯钒试样晶粒大小没有显著变化,均观察到板条马氏体组织存在; 氧化行为符合抛物线规律,活化能为118 kJ/mol.
关键词:
热等静压
,
纯钒
,
性能
,
组织
,
氧化
谢东华
,
赖新春
,
陈秋云
,
张延志
,
徐钦英
,
罗丽珠
稀有金属材料与工程
采用镓自助熔剂的方法生长出了UFeGa5单晶,采用X射线衍射技术和Rietveld方法对UFeGa5晶体结构进行了研究.结果表明:生长出的UFeGa5单晶体结构完整,结晶性好.UFeGa5具有HoCoGa5型四方结构,空间群为P4/mmm(No.123),其晶格常数为a=0.42533(2) nm,c=0.67298(3) nm,并得到了透射电镜(TEM)实验验证.
关键词:
UFeGa5
,
助熔剂法
,
晶体结构
,
Rietveld方法
谢茂林
,
罗德礼
,
鲜晓斌
,
冷邦义
,
谢东华
,
鲁伟员
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00811
采用高温超高压(HT-HP)技术在4.5GPa/1250℃/20min工艺条件下制备了添加2wt% Al2O3助烧结剂的纳米SiC 陶瓷. 采用X射线粉末衍射(XRD)、X光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、X射线能谱(EDX)、纳米压痕(Nano indenter)研究了烧结SiC陶瓷的物相 组成、晶粒大小、化学成分、微观结构、纳米压痕力学性能等. 结果表明: 采用超高压烧结, 可以在较低温度(1250±50℃)、较少烧结助剂用量下实现纳米SiC的致密烧结. 烧结体未发生相转变, 结构致密, 无孔隙, 晶粒尺寸为22nm, 晶格常数为0.4355nm;显微硬度为33.7GPa, 弹性模量为407GPa.
关键词:
超高压
,
sinter
,
silicon carbide
,
alumina
谢东华
,
张鹏程
,
张羽廷
,
王庆富
,
刘婷婷
腐蚀学报（英文）
采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线结构衍射仪(XRD)及拉伸实验等方法,研究了铀(U)上磁控溅射Al镀层在480℃,2小时,60 MPa条件下热等静压(HIP)处理对界面特性以及膜基结合强度的影响.结果表明：经HIP处理后,镀层密度达到了其理论密度；镀层由柱状晶转变为致密的层状结构,在界面处Al、U元素形成了互扩散,并生成了金属间化合物UAl2和UAl3；膜基结合形成了冶金结合,结合强度有所增强.
关键词:
热等静压
,
uranium/aluminum coating
,
interface characteristics
王庆富
,
张羽廷
,
谢东华
,
张鹏程
,
刘婷婷
稀有金属材料与工程
采用热等静压(HIP)技术对铀表面铝镀层进行处理,利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对样品在50 μL/L Cl的KC1水溶液中的电化学腐蚀行为进行研究.结果表明:200℃,0.5 h,60 MPa HIP处理的铝镀层耐腐蚀性能优于未处理镀层；480℃,1.0 h,60MPa HIP处理镀层的耐腐蚀性能下降较为明显;HIP处理后样品的腐蚀特征为典型的局部腐蚀,在腐蚀过程中会出现镀层的破裂、剥落.
关键词:
铀
,
铝镀层
,
热等静压
,
电化学腐蚀
谢东华
,
张鹏程
,
张羽廷
,
王庆富
,
刘婷婷
腐蚀学报（英文）
doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2009.05.007
采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线结构衍射仪(XRD)及拉伸实验等方法,研究了铀(U)上磁控溅射Al镀层在480℃,2小时,60 MPa条件下热等静压(HIP)处理对界面特性以及膜基结合强度的影响.结果表明:经HIP处理后,镀层密度达到了其理论密度;镀层由柱状晶转变为致密的层状结构,在界面处Al、U元素形成了互扩散,并生成了金属间化合物UAl2和UAl3;膜基结合形成了冶金结合,结合强度有所增强.
关键词:
热等静压
,
U/hl镀层
,
界面特性
