材料期刊网，材料期刊，材料类期刊，材料期刊投稿

本文利用电化学刻蚀的方法在n型Si衬底上制备了不同形貌的多孔硅.扫描电子显微镜观察发现不同刻蚀条件制备的样品呈现腐蚀程度不同但腐蚀方向相同的侧向腐蚀.实验和理论分析表明适当电注入的空穴浓度是形成光滑孔壁的关键,过量注入的空穴在侧壁形成耗尽层,促使体硅少子漂移是侧向腐蚀的主要原因.

关键词: 多孔硅 , 侧蚀分析 , 控制方法

慧差对矢量偏振贝塞耳-高斯光束聚焦场的影响

赵肇雄 , 刘勇

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2009.06.001

利用Richarda-Wolf矢量衍射积分公式,获得矢量偏振贝塞耳-高斯光束经具有初级慧差的高数值孔径系统聚焦后的三维光场复振幅函数,模拟了不同慧差系数下聚焦光场的纵向分布,以及焦平面和光轴上的光强.研究表明,初级慧差的存在导致矢量偏振贝塞耳-高斯光束的会聚光场发生偏移和变形,焦平面光强的分布和光轴上的光强峰值都受初级慧差和入射光偏振态的共同影响,偏振态和初级慧差不影响聚焦光场在光轴上的对称分布.

关键词: 物理光学 , 贝塞耳-高斯光束 , Richards-Wolf矢量衍射积分 , 径向偏振 , 方位角偏振 , 慧差

嘉铜出丹阳

李延祥

金属世界 doi:10.3969/j.issn.1000-6826.2000.01.012

关键词:

环保电镀今昔谈

袁国伟

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2003.01.019

关键词:

简谈预浸

袁诗璞

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.11.014

无氰预浸可提高镀液深镀能力与分散能力,及镀层结合力.介绍了钾盐镀锌前,在镀液各组分质量分数为标准配方的120%～150%的溶液中预浸的方法,并从理论上分析了其原理.指出了手工进行预浸操作时应注意的事项.给出了预浸在钢铁件镀无氰碱铜、锌压铸件直接镀焦磷酸铜、含铅的锌合金件镀镍及HEDP镀铜中的应用实例.

关键词: 预浸 , 镀锌 , 镀铜 , 镀镍 , 深镀能力 , 分散能力 , 结合力