乔志
,
褚夫强
,
渠鸿飞
,
尹绪超
材料开发与应用
振动是舰船舱室噪声的源头,本文基于有限元/边界元方法,对约束阻尼结构在舱室模型建立时相关材料参数的设定进行了较系统的研究,建立起对约束阻尼结构进行仿真计算的方法,仿真结果与试验结果吻合较好.因此,对类似结构约束阻尼处理的减振降噪评估分析有较强的参考价值,可以为约束阻尼的优化设计提供有效指导.
关键词:
舱室
,
有限元/边界元
,
约束阻尼层
,
减振降噪
黄承
,
徐明会
,
褚夫强
材料开发与应用
丁腈橡胶/聚氯乙烯共混材料兼具了丁腈橡胶的耐油性和聚氯乙烯的耐臭氧、耐候性,因此在橡胶工业中得到广泛应用.但长期以来,受聚氯乙烯填料影响,丁腈橡胶/聚氯乙烯共混材料与骨架的粘接性能不甚理想,这限制了其在胶布制品中的进一步应用.本文研究了相关配合体系对粘接性能的影响效果.实验表明,通过配方优化设计,利用橡胶工业常见原材料也能获得粘接性能优异的共混胶.
关键词:
NBR/PVC
,
骨架
,
粘接性能
闫作为
,
曾飞
,
褚夫强
材料开发与应用
本文主要以胶料的耐煤焦油、密封油性能为主要性能指标,并兼顾了胶料的耐汽油/苯性能、耐萘性能、工艺性能、成本等影响因素,考察了几种典型耐油橡胶CR2321、NBR4050、HNBR2020、EPDM4703、FKMMX-70CB、1#NR以单用或并用形式作为焦炉煤气柜用橡胶的可行性.结果表明,当FKM MX-70CB和NBR4050以80/20比例并用时,其综合性能最佳,可以作为焦炉气柜用橡胶密封膜胶料理想的主体材料.
关键词:
焦炉煤气
,
橡胶密封膜
,
耐油性
尹绪超
,
褚夫强
,
渠鸿飞
材料开发与应用
基于试验模态分析,考察船用加强筋板架模型在不同敷设位置,全部进行约束阻尼等处理方式对系统动态特性的影响.试验结果表明:(1)板架表面进行约束阻尼处理后,在不同测点位置,结构表面振动均有不同程度的衰减;(2)阻尼减振作用与激励源传播距离有关,在激励点位置,阻尼减振效果不佳;(3)阻尼减振效果与激励方式、阻尼敷设位置均有一定关系,局部阻尼处理在特定情况下可达到与全部阻尼处理相当的减振效果.
关键词:
粘弹性阻尼材料
,
振动控制
,
损耗因子
,
约束阻尼处理
褚夫强
,
徐明会
,
黄承
材料开发与应用
以橡胶密封膜用单层布的骨架粘接性、胶料耐油性以及胶布经、纬向力学强度等指标为主要考察依据,对单层布的胶料主体材质、粘合体系、硫化体系以及骨架材料进行了对比选择.结果表明,胶料主体材料选用NBR/PVC=70/30,粘合体系选用白炭黑,硫化体系选用高促低硫体系并配合表面进行RFL浸胶处理的纬向加强型NN250帆布,胶布的骨架粘和性、胶料耐油性综合性最优,同时胶布经、纬向力学强度完全满足3.5 kN/3 cm以上的要求,可以作为石化密封膜胶布使用.
关键词:
单层布
,
骨架粘接性
,
耐油性
,
胶布力学强度
褚夫强
,
李庄
,
曾飞
材料开发与应用
研究了生胶品种、硫化体系、填充体系和加工助剂等因素对三元乙丙橡胶耐磨性能的影响.实验结果表明:胶种选用高乙烯含量,高门尼粘度的非充油型乙丙橡胶,硫化体系采用硫磺/硫载体并用的有效硫磺硫化体系,填充体系采用高结构炭黑N220以及Si-69改性过的气相法白炭黑AS-200并用体系,同时配合0.5份左右的爽滑粉,都能有效提高EPDM胶料的耐磨性能.
关键词:
三元乙丙
,
耐磨性能
,
橡胶
杨丰科
,
韩健
,
王永春
,
陈芳
应用化学
doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2015.04.140286
以对溴苯酚和苯甲酰氯为原料,经过酯化、Fries重排、缩合等一系列反应,合成了2-[(2-苯基亚氨基)苯甲基]-4-溴苯酚,该化合物分别与多种醛酮在不同条件下反应,得到了5种不对称双席夫碱和2种对称性双席夫碱.对席夫碱化合物的抑菌活性测定表明,大部分化合物具有较强的抗菌活性,其中含硫原子的席夫碱抑菌活性最强,最小抑菌浓度均为1×10-4 g/L.
关键词:
席夫碱
,
合成
,
重排
,
抑菌活性
申书昌
,
蔡君洋
,
王利鸿
应用化学
doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2016.09.150410
以对苯二胺、3-氯丙醇和4-羟基苯甲醛为原料,合成对苯二(对苯丙氧基醇)亚胺液晶基元,再与对苯二异氰酸酯和1,3-双(3-氨基丙基)四甲基二硅氧烷反应,合成席夫碱型硅氧烷聚氨酯液晶聚合物。通过红外光谱法、X射线衍射、热分析、偏光显微镜等技术手段对其结构和性能进行了表征。结果表明,该物质为席夫碱有机硅聚氨酯液晶聚合物,属于近晶相液晶,液晶区间为103~150℃,热分解温度为300℃。用席夫碱型硅氧烷聚氨酯液晶固定相制备填充色谱柱,考察固定液的相对极性及其对取代苯位置异构体的色谱分离性能。合成的席夫碱型硅氧烷聚氨酯液晶聚合物的液晶温度范围为103~146℃,属于强极性固定液(Px=79),各组分色谱峰的分离度为0.96~3.33。
关键词:
有机硅
,
席夫碱聚氨酯液晶
,
色谱固定相
,
结构表征
,
色谱性能
申书昌
,
蔡君洋
,
王利鸿
应用化学
doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2016.09.150410
以对苯二胺、3-氯丙醇和4-羟基苯甲醛为原料,合成对苯二(对苯丙氧基醇)亚胺液晶基元,再与对苯二异氰酸酯和1,3-双(3-氨基丙基)四甲基二硅氧烷反应,合成席夫碱型硅氧烷聚氨酯液晶聚合物.通过红外光谱法、X射线衍射、热分析、偏光显微镜等技术手段对其结构和性能进行了表征.结果表明,该物质为席夫碱有机硅聚氨酯液晶聚合物,属于近晶相液晶,液晶区间为103 ~ 150℃,热分解温度为300℃.用席夫碱型硅氧烷聚氨酯液晶固定相制备填充色谱柱,考察固定液的相对极性及其对取代苯位置异构体的色谱分离性能.合成的席夫碱型硅氧烷聚氨酯液晶聚合物的液晶温度范围为103~146℃,属于强极性固定液(Px=79),各组分色谱峰的分离度为0.96~3.33.
关键词:
有机硅
,
席夫碱聚氨酯液晶
,
色谱固定相
,
结构表征
,
色谱性能
陈德余
,
张义建
,
张平
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2000.06.007
合成了邻香草醛甲硫氨酸席夫碱及其铜、锌、钴等配合物,通过元素分析、摩尔电导、红外光谱、电子光谱、热分析及电子顺磁共振等手段对它们进行了表征,并用EPR法探讨了它们对O2.-的清除作用.结果表明,配体与配合物均具有抗O2.-性能,配合物清除能力比配体强,其中铜和钴配合物清除能力最强.
关键词:
甲硫氨酸席夫碱
,
过渡金属配合物
,
合成
,
抗O2.-性能