薛增辉
,
李伟
,
卢建富
,
刘平
,
马凤仓
,
刘新宽
,
陈小红
,
何代华
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.07.025
采用射频磁控溅射工艺在 Si 基底上制备TiSiCN 纳米复合膜,固定靶材中的 Ti 含量,通过改变Si 和 C 的含量比沉积得到一系列薄膜,采用 X 射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线光电子能谱(XPS)和纳米压痕仪研究了不同 Si/C含量比对 TiSiCN 纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响.结果表明,Si/C 含量比对 TiSiCN 纳米复合膜的微观结构和硬度具有显著影响,当 Si/C 含量比为Si2 C2时制得薄膜的微观结构为晶化的界面相(SiNx ＋C)与其包裹的 TiN 纳米晶粒共格外延生长,薄膜硬度达到最高值46 GPa.
关键词:
TiSiCN 纳米复合膜
,
微观结构
,
力学性能
,
共格外延生长
薛增辉
,
李伟
,
刘平
,
马凤仓
,
刘新宽
,
陈小红
,
何代华
无机材料学报
doi:10.15541/jim20140022
采用TiSi复合靶与V靶,用射频磁控溅射工艺在TiSiN纳米复合膜中插入不同厚度的VN纳米层,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了VN插入层厚度对TiSiN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响.结果表明:当TiSiN纳米复合膜中插入VN纳米层厚度较小时,薄膜由纳米复合结构转变成纳米多层结构,薄膜硬度降低.继续增加VN层厚度,薄膜硬度随之升高,在VN沉积层厚为0.5 nm时薄膜出现连续贯穿多层纳米层、结晶度良好的柱状晶,TiSiN层与VN层呈共格外延生长的结构,薄膜硬度达到37.2 GPa.随着VN层厚的继续增加,薄膜的共格外延生长结构消失,硬度下降.
关键词:
TiSiN纳米复合膜
,
VN插入层
,
微观结构
,
力学性能
曹楚南
,
于惠颐
,
董首山
,
侯文涛
中国腐蚀与防护学报
根据对于弱极化正弦波动电流扫描滞后圈的研究结果,提出了从小振幅正弦波动电流扫描滞后圈高度测定腐蚀金属电极的极化电阻R_p和界面电容C的方法。这一方法的测量结果不受参考电极至被测电极之间溶液电阻R_(sol)的影响。提出了测量滞后圈高度的0,π增辉法。列出了在模拟电路上纯Fe在不加和添加缓蚀剂的1NH_2SO_4溶液中的测量结果。
关键词:
钟卫平
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.03.017
给出了描述光折变光电晶体中空间孤子的非线性薛定鄂方程,利用分步傅里叶变换法研究了光电晶体的光折变空间孤子的传输特性.数值模拟结果表明:在忽略光电晶体的克尔效应时,晶体中传输的光束失去了空间孤子的传输特性;在考虑晶体的克尔效应可以与外调制光强度相比拟时,随着外加光强的增加,空间孤子的形状可能发生变形,甚至失去其传输的稳定性;在考虑晶体克尔效应非常强时,空间孤子可以在光电晶体中稳定地、不变形的传输,具有理想信息载体的传输特性.
关键词:
非线性光学
,
空间孤子
,
光电晶体
,
数值模拟
,
分步傅里叶变换
方运
,
谭世勇
,
赖新春
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.017.004
FeSe及其相关化合物的高温超导性引起了凝聚态物理研究人员的广泛关注。在所有铁基超导体中， FeSe的成分和晶体结构最为简单，只存在铁基超导体最基本的结构单元FeSe层。FeSe超导体具有特殊的电子结构和物理特性，是铁基高温超导机制研究的理想平台。2012年，薛其坤组在SrTiO3（STO）衬底表面采用分子束外延（MBE）法生长了单层FeSe薄膜，发现该体系的超导转变温度（TC ）有接近80 K的迹象，引起人们的广泛关注。先简要地介绍了FeSe晶体，FeSe／石墨烯薄膜的超导特性，再详细介绍了 FeSe／SrTiO3高温超导薄膜的输运性质、超导特性、电子结构以及可能影响单层FeSe／SrTiO3薄膜高温超导的几个因素。
关键词:
铁基超导体
,
FeSe薄膜
,
电子结构
,
输运性质
