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锌-锰合金镀层磷化工艺研究

缪娟 ,

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2007.01.002

为进一步提高Zn-Mn合金镀层的抗蚀性,采用锌锰系磷化处理Zn-Mn合金镀层,研究表明在相同镀层厚度下,Zn-Mn合金镀层抗蚀能力是镀锌层的5倍,经磷化后的Zn-Mn合金镀层的抗蚀能力是镀锌层的7~8倍.实验结果表明,Zn-Mn合金镀层经锌锰系磷化后抗蚀性明显提高.

关键词: Zn-Mn合金镀层 , 磷化 , 耐蚀性

锌酸盐电镀Zn-Fe合金的现状与发展

王云燕 , 谢勤 , 舒余 ,

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2001.06.010

综述了碱性锌酸盐电镀Zn-Fe合金的工艺现状,重点评述了碱性锌酸盐电镀Zn-Fe合金络合剂及添加剂的发展,添加剂的光亮作用机理,添加剂的研究现状及选择标准,指出了Zn-Fe合金电镀的发展前景.

关键词: 锌酸盐 , Zn-Fe合金 , 添加剂 , 发展前景

阴离子膜不锈钢阳极锌锰合金电沉积的研究

, 李存红 , 祝天林 , 舒余

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.08.010

研究了锌锰合金电沉积的工艺条件、镀液稳定性、镀层中锰含量和阴极电流效率的规律.采用阴离子膜作阳极隔膜,不锈钢作阳极,紫铜板为阴极,研究了硫酸盐-柠檬酸体系锌锰合金电沉积的工艺条件,讨论了阴极电流密度、镀液中锰离子的浓度、镀液中锌、锰离子的摩尔比、增效剂、电沉积温度等因素对镀层中锰含量和阴极电流效率的影响规律,探索了提高阴极电流效率的途径,改善了镀液的稳定性.本文所选工艺条件为:MnSO4@H2O 30~50g/L,ZnSO4@7H2O:5~10g/L,柠檬酸钠(二水)100~150g/L,增效剂0.083g/L,表面活性剂适量,ic1.5~3.0 A/dm2,pH值5.6,t 25~30℃.该工艺可得含锰量为50%左右的锌锰合金镀层,阴极电流效率约为60%.镀液在该工艺条件下连续施镀90min镀层组成稳定.

关键词: 锌锰合金 , 电沉积 , 电流效率 , 阴离子膜

硫酸盐-柠檬酸体系锌锰合金电沉积的研究

, 舒余 , 刘长春 , 李存红

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.04.011

用电化学法研究了硫酸盐-柠檬酸体系锌锰合金电沉积的工艺条件,各因素对镀层中锰含量及电流效率的影响及提高电流效率的途径。在最佳工艺条件下镀液稳定、镀层抗蚀性好,施镀电流效率较国外文献报道值提高50%。

关键词: 电沉积 , 锌锰合金 , 电流效率

锌锰合金镀层钝化条件研究

缪娟 ,

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.04.018

为进一步提高Zn-Mn合金镀层的抗蚀性,采用绿色低铬钝化处理锌锰合金镀层,并对钝化条件进行优化,研究表明,Zn-Mn合金(未钝化)浸泡1 200h出现红锈,经绿色低铬钝化后,5%氯化钠水溶液浸泡1 500h后出现少量红锈,锌锰合金镀层经钝化后抗蚀性明显提高.

关键词: Zn-Mn合金镀层 , 钝化 , 耐蚀性

锌锰异常共沉积的研究

, 缪绢 , 王拥军 , 舒余

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.09.013

研究发现锌锰合金电沉积时,在一定条件下也存在异常共沉积现象.首次采用分电流法,在阴极电流密度超过一定值之后锌的分电流随阴极电流密度的增大而下降,同时锰的分电流却在增加,当锰的分电流与锌的分电流之比超过一定值时就出现了异常共沉积.同时还研究了溶液中锌、锰离子的浓度比对锌锰合金电沉积由正常到异常的转变规律.

关键词: 锌锰合金电沉积 , 异常共沉积 , 分电流曲线

碱性锌酸盐体系锌及锌铁合金电镀添加剂

王云燕 , 舒余 , 谢勤 ,

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2001.03.004

综述了碱性锌酸盐体系锌及锌铁合金电镀添加剂的研究和发展,添加剂产生光亮作用的机理。

关键词: 锌酸盐体系 , 电镀 , 锌及锌铁合金 , 添加剂

不锈钢阳极-EDTA-硫酸盐体系锌锰合金电沉积的研究

, 舒余 , 李存红 , 祝天林

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2001.03.004

研究了不锈钢阳极EDTA作络合剂硫酸盐体系锌锰合金电沉积的工艺条件,考察了各工艺条件的影响情况,电流效率比文献报道提高50%.镀层光亮,镀液稳定.

关键词: EDTA , 锌锰合金 , 电沉积

ZnSe薄膜电沉积工艺条件的研究

缪娟 , 张成光 ,

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.04.017

采用电沉积方法制备了ZnSe薄膜,研究了电沉积工艺参数,包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值及电流密度等对膜层的影响.通过正交试验对上述各参数进行优化,以寻求最佳的工艺条件,得到最佳制备条件为:电流密度6.0mA/cm2,柠檬酸钠14.71g,pH值3.5,Zn2+/SeO2-3浓度比200:1,温度65℃,时间8min.在此条件下制备了薄膜样品,并用扫描电镜、EDAX能谱仪对镀层进行了表征,其结构均匀致密,Zn/Se化学计量比为1/1.01.

关键词: 电沉积 , ZnSe薄膜 , 工艺条件

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