张志坤
,
章俞之
,
边继明
,
孙景昌
,
秦福文
,
刘维峰
,
骆英民
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2013.13273
本研究成功地在石墨衬底上制备了低维ZnO材料,即一维的ZnO纳米棒和二维的ZnO薄膜.采用X射线衍射、场发射扫描电镜、光致发光谱和反射谱等测量技术对石墨衬底上制备的低维ZnO纳米材料的晶体结构、形貌和光学特性进行了表征.结果发现在室温条件下,准一维的ZnO纳米棒和二维的ZnO薄膜都表现出了较好的近带边发射,基本探测不到由杂质和缺陷等引起的深能级发光,并且这种低维ZnO材料/石墨衬底复合结构在300～800 nm光谱范围内具有较低的反射率.本实验结果对于ZnO基光电子器件性能的提高以及在太阳能电池领域的应用具有重要意义.
关键词:
ZnO
,
石墨
,
光致发光
,
高功率光电子器件
彭明栋
,
章俞之
,
宋力昕
,
尹小富
,
王盼盼
,
吴岭南
,
胡行方
无机材料学报
doi:10.15541/jim20160312
通过射频溅射法,常温下制备了纯相WO3和Ti掺杂WO3薄膜,采用XRD、SEM、Raman、电化学工作站、紫外–可见–近红外分光光度计等对薄膜的微观结构、循环稳定性、光学性能进行了表征和分析.研究发现:钛掺杂对WO3薄膜的表面形貌和光学常数影响不明显,但使薄膜的晶化温度升高.电化学测试结果表明,Ti掺杂可以提高离子在薄膜中注入/抽出的可逆性,提高薄膜的循环稳定性,同时薄膜的响应速度和光学调制性能也得到提高,掺杂后薄膜着色态和漂白态的响应时间分别由9.8、3.5 s减小为8.4、2.7 s,因此Ti掺杂WO3薄膜具有更好的电致变色性能.
关键词:
电致变色
,
钛掺杂
,
氧化钨薄膜
,
结构
王绍华
,
王军丽
,
徐瑞东
,
章俞之
材料保护
通过Ni,W,P与CeO2,SiO2纳米颗粒的双脉冲电沉积,在普通碳钢表面制备了Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料沉积层.在正、反向脉冲占空比(10%,30%)和正、反向脉冲平均电流密度(15.0,1.5 A/dm2)恒定下,研究了正、反向脉冲时间对纳米复合材料电沉积的影响.采用能谱、硬度测试和扫描电镜等方法,对纳米复合材料沉积层的化学组成、沉积速率、显微硬度和表面形貌进行了表征.结果表明:当正、反向脉冲时间分别控制在300 ms和40 ms时,Ni-W-P基质金属轮廓清晰,晶粒细小而均匀,CeO2和SiO2纳米颗粒在基质金属中均匀弥散分布;沉积层的化学组成(质量分数)为:70.89%Ni,9.89%W,8.59%P,7.35%CeO2,2.81%SiO2;沉积速率为45.1μm/h,显微硬度为706 HV.
关键词:
双脉冲
,
Ni-W-P/CeO2-SiO2
,
纳米复合材料
,
电沉积
,
脉冲时间
,
沉积速率
,
显微硬度
赵晓玲
,
王孝
,
曹韫真
,
闫璐
,
章俞之
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.18.032
利用等离子体发射光谱监测系统(PEM)控制钒的等离子强度,在石英基底上磁控溅射制备了VO2薄膜。采用 XRD、XPS、SEM、紫外-可见-近红外分光光度计及傅立叶红外分光光度计研究薄膜的结构、光学及相变特性。结果表明,所制备的 VO2薄膜具有(011)取向,VO2薄膜的热滞回线宽度为25℃,可见光透过率和太阳光调节率分别可达T lum,l=34.1%、T lum,h=35.3%和ΔT sol=6.8%,相变前后,红外光区的反射率变化最大值可达44.4%。
关键词:
VO2薄膜
,
PEM
,
光学性能
黄银松
,
章俞之
,
宋力昕
,
胡行方
无机材料学报
通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261～0.589的范围内可逆调节.
关键词:
直流反应溅射
,
polycrystalline tungsten oxide films
,
infrared reflectance
,
null
,
null
章俞之
,
周健儿
,
快素兰
,
胡行方
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.03.030
本文运用XRD、RPD、SEM、EDS等手段详细研究了钛酸铝-莫来石复合材料中莫来石相对钛酸铝热稳定性的影响.实验发现: 复合材料的合成温度影响莫来石对钛酸铝陶瓷热分解的抑制作用,而且莫来石的加入量和种类以及热处理时间,也是影响莫来石抑制钛酸铝分解效果的因素.莫来石抑制钛酸铝分解机理的研究表明:莫来石与钛酸铝生成的固溶体以及莫来石晶粒对钛酸铝晶粒具有压制作用,从而有效地提高了钛酸铝的稳定性.
关键词:
钛酸铝
,
莫来石
,
复合材料
,
热稳定
,
热膨胀系数
黄银松
,
章俞之
,
宋力昕
,
胡行方
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.06.030
通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261～0.589的范围内可逆调节.
关键词:
直流反应溅射
,
多晶氧化钨薄膜
,
Raman散射
,
红外反射
,
发射率
孙洪君
,
王敏焕
,
边继明
,
苗丽华
,
章俞之
,
骆英民
无机材料学报
doi:10.15541/jim20160456
采用分子束外延(MBE)技术在单晶蓝宝石衬底上生长了高质量化学计量比二氧化钒(VO2)薄膜,通过该技术实现薄膜厚度15～60 nm精确控制.对于优化条件下VO2薄膜,实现了电阻率变化超过4个数量级的优异金属-绝缘体相变,近似于之前报道高质量单晶VO2相变特性.特别是通过太赫兹时域光谱分析了不同厚度的VO2薄膜在太赫兹波段的光学特性.结果表明:VO2薄膜的厚度对其在太赫兹波段的光学特性有很大影响.因此,为了获得更优的可靠性和重复性能,VO2薄膜的厚度必须得到精确控制.本研究结果对于下一步VO2基太赫兹器件研究具有重要意义.
关键词:
二氧化钒薄膜
,
太赫兹时域光谱
,
分子束外延
,
金属-绝缘体相变
